[发明专利]酸性氯化铜蚀刻液铜回收再生系统及回收再生方法有效
申请号: | 201810979851.3 | 申请日: | 2018-08-27 |
公开(公告)号: | CN109161895B | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
发明(设计)人: | 袁胜巧 | 申请(专利权)人: | 安徽绿洲危险废物综合利用有限公司 |
主分类号: | C23F1/46 | 分类号: | C23F1/46;C23F1/08;C25C1/12;C25C7/00;C25C7/08 |
代理公司: | 合肥鼎途知识产权代理事务所(普通合伙) 34122 | 代理人: | 叶丹 |
地址: | 242200 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 酸性 氯化铜 蚀刻 回收 再生 系统 方法 | ||
本发明提供一种酸性氯化铜蚀刻液铜回收再生系统及回收再生方法,涉及蚀刻液循环再生技术领域。本发明酸性氯化铜蚀刻液铜回收再生系统包括蚀刻液再生系统以及位于蚀刻液再生系统下游的废气处理系统,还包括铁水洗涤液处理系统;本发明酸性氯化铜蚀刻液铜回收再生方法有效解决现有酸性氯化铜蚀刻液再生循环的高能耗、低回用率、阴极铜杂质含量多、氯气二次污染环境等问题,对酸性氯化铜蚀刻液电解再生循环技术的全面应用提供技术支持。
技术领域
本发明涉及蚀刻液循环再生技术领域,具体涉及一种酸性氯化铜蚀刻液铜回收再生系统及回收再生方法。
背景技术
印刷电路板是各种电子产品的基础部件,其生产过程中的重要一环是用化学腐蚀方法刻蚀掉铜箔板上电路需要之外多余的铜(一般在60-70%)。酸性氯化铜和碱性氯化铜蚀刻液为目前使用最多的蚀刻剂,其中酸性氯化铜蚀刻液因为具有侧蚀小等特点特别适合刻蚀精度要求高的印刷电路板产品,被大量的印刷电路板工厂越来越多地使用。蚀刻加工时发生的化学反应是,蚀刻液中一个二价铜离子将铜箔板上一个金属铜原子氧化,生成二个一价铜离子。故随蚀刻的进行,蚀刻液中总铜和一价铜离子浓度增加,将会造成蚀刻能力逐渐下降。为保持理想的刻蚀能力,通常做法是对一部分蚀刻液进行化学再生,即向蚀刻液中添加化学氧化剂将一价铜氧化为二价铜。化学再生后的蚀刻液重复使用,而另一部分未再生的蚀刻液成为蚀刻废液。每刻蚀加工一平方米印刷电路板约产生2-2.5L含铜量为100-150g.L-1的蚀刻废液。
印刷电路板工厂中产生的铜蚀刻废液一般要送到废液处理厂用中和沉淀法、置换法、萃取法等化学方法处理回收铜。但这些处理方法从废液中回收的铜是以化合物的形式,产品价值低,且处理过程中要消耗大量化学药剂。另外,由于各化学回收法本身的技术局限,有相当一部分铜未得到回收,而是被排入环境,造成环境污染。
目前,国内外研究和开发氯化铜蚀刻液电解回收铜的单位不少,所研发的设备在使用过程中出现不同问题,导致不能投入行业使用,比如:电解提铜后蚀刻液无法进行循环利用,不单给环境造成污染,也导致化学原料的浪费;另一个技术难题是在电解过程中阳极会有氯气析出,根据理论计算,每电解沉积出100kg的铜,相应会在阳极析出111.6kg的氯气,其标准状态下的体积约为35.26m3,如何妥善处理产生的大量氯气以及残留废液而不对环境造成二次污染,无疑会使得成本增加和设备复杂化。
因此,研制一种酸性氯化铜蚀刻液铜回收再生系统及回收再生方法对于铜的回收再利用尤为重要。
发明内容
针对现有技术不足,本发明提供一种酸性氯化铜蚀刻液铜回收再生系统及回收再生方法。
为实现以上目的,本发明的技术方案通过以下技术方案予以实现:
一种酸性氯化铜蚀刻液铜回收再生系统,所述酸性氯化铜蚀刻液铜回收再生系统包括蚀刻液再生系统以及位于蚀刻液再生系统下游的废气处理系统,还包括铁水洗涤液处理系统,所述蚀刻液再生系统包括依次连接的蚀刻生产线、废液储存桶、电解槽、再生液储存桶,所述再生液储存桶的下游与蚀刻生产线连接,所述电解槽的阳极区与溶解吸收缸连通、射流装置、蚀刻生产线依次连通;
所述铁水洗涤液处理系统包括依次连接的溶铁缸、铁水吸收缸、铁水洗涤塔;其中,所述铁水洗涤液处理流程依次为:溶铁缸-铁水吸收缸-铁水洗涤塔,所述溶铁缸内含有二氯化铁、单质铁、氯化氢;所述铁水吸收缸内为含有杂质的二氯化铁;所述铁水洗涤塔内为纯净的二氯化铁。
所述蚀刻生产线上具有环境抽风管,所述环境抽风管通过管道与所述废气处理系统连接,
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