[发明专利]掩膜组件、投影模组、光电装置和电子设备在审
申请号: | 201810981437.6 | 申请日: | 2018-08-27 |
公开(公告)号: | CN110865512A | 公开(公告)日: | 2020-03-06 |
发明(设计)人: | 李宗政;林君翰;陈冠宏;周祥禾;詹明山 | 申请(专利权)人: | 南昌欧菲生物识别技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/38 | 分类号: | G03F1/38;G03F1/52 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 黄德海 |
地址: | 330013 江西*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组件 投影 模组 光电 装置 电子设备 | ||
1.一种掩膜组件,其特征在于,所述掩膜组件包括:
掩膜;和
反射镀膜,所述反射镀膜设置在所述掩膜上,所述掩膜组件形成有透光区域与非透光区域,所述反射镀膜与所述非透光区域对应,所述反射镀膜用于反射射向所述非透光区域的激光。
2.根据权利要求1所述的掩膜组件,其特征在于,所述反射镀膜包括相背的第一面和第二面,
所述反射镀膜为单面反射镀膜,所述第一面或所述第二面为用于反射激光的反光面;或
所述反射镀膜为双面反射镀膜,所述第一面与所述第二面均为用于反射激光的反光面。
3.根据权利要求2所述的掩膜组件,其特征在于,所述掩膜包括入光面和出光面,当所述反射镀膜为单面反射镀膜时,所述反射镀膜设置在所述入光面或所述出光面,所述反光面与所述激光的入射方向相对。
4.根据权利要求2所述的掩膜组件,其特征在于,所述掩膜包括入光面和出光面,所述反射镀膜包括入光反射镀膜及出光反射镀膜,所述入光反射镀膜为双面反射镀膜并设置在所述入光面,所述出光反射镀膜为单面反射镀膜并设置在所述出光面,所述出光反射镀膜的所述反光面设置在所述出光面并与所述入光反射镀膜的所述反光面相对。
5.一种投影模组,其特征在于,所述投影模组包括:
激光发射器,所述激光发射器用于发射激光;和
权利要求1至4任意一项所述的掩膜组件,所述掩膜组件用于将所述激光转化为特定图案的激光图案。
6.根据权利要求5所述的投影模组,其特征在于,所述激光发射器包括衬底及设置在所述衬底上的多个发光元件,所述衬底包括安装面,所述安装面与所述掩膜相对并开设有多个出光孔,多个所述发光元件设置在多个所述出光孔内以发射激光,所述安装面位于所述出光孔之外的区域设置有反光镀膜。
7.根据权利要求6所述的投影模组,其特征在于,所述发光元件至少形成第一阵列及第二阵列,所述第一阵列的行中的发光元件与所述第二阵列的行中的发光元件依次交错分布,所述第一阵列的列中的发光元件与所述第二阵列的列中的发光元件依次交错分布。
8.根据权利要求5所述的投影模组,其特征在于,所述掩膜组件包括有效区域及环绕所述有效区域的安装区域,所述透光区域和所述非透光区域设置在所述有效区域内,所述有效区域用于将所述激光转化为所述激光图案,所述安装区域用于安装所述掩膜组件,所述安装区域设置有所述反射镀膜。
9.一种光电装置,其特征在于,所述光电装置包括:
权利要求5至8任意一项所述的投影模组,所述投影模组用于朝目标物体发射所述激光图案;和
相机模组,所述相机模组用于接收经目标物体反射后的激光图案。
10.一种电子设备,其特征在于,所述电子设备包括:
壳体;和
权利要求9所述的光电装置,所述光电装置设置在所述壳体上。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备