[发明专利]掩膜组件、投影模组、光电装置和电子设备

说明书

本发明公开了一种掩膜组件、投影模组、光电装置和电子设备。掩膜组件包括掩膜和反射镀膜。反射镀膜设置在掩膜上，掩膜组件形成有透光区域与非透光区域，反射镀膜与非透光区域对应，反射镀膜用于反射射向非透光区域的激光。本发明实施方式的掩膜组件通过在非透光区域设置反射镀膜，使得激光发射器射向非透光区域的激光不是被吸收而是被反射镀膜反射回去，被反射镀膜反射的激光在掩膜组件和激光发射器之间来回反射并最终从透光区域射出以形成激光图案，相较于激光被非透光区域吸收，激光被反射时损耗较小，从而可以更充分的利用激光，进而减小投影模组的功耗。

技术领域

本发明涉及成像技术领域，更具体而言，涉及一种掩膜组件、投影模组、光电装置和电子设备。

背景技术

目前，掩膜一般具有透光区域和非透光区域并通过非透光区域吸收光源发出的激光，激光经过透光区域后会形成激光图案，但部分光被非透光区域吸收造成部分激光损耗，激光得不到充分利用，从而加大设备的功耗。

发明内容

本发明实施方式提供一种掩膜组件、投影模组、光电装置和电子设备。

本发明实施方式的掩膜组件包括掩膜和反射镀膜。所述反射镀膜设置在所述掩膜上，所述掩膜组件形成有透光区域与非透光区域，所述反射镀膜与所述非透光区域对应，所述反射镀膜用于反射射向所述非透光区域的激光。

本发明实施方式的掩膜组件通过在非透光区域设置反射镀膜，使得激光发射器射向非透光区域的激光不是被吸收而是被反射镀膜反射，被反射镀膜反射的激光在掩膜组件和激光发射器之间来回反射并最终从透光区域射出以形成激光图案，相较于激光被非透光区域吸收，激光被反射时损耗较小，从而可以更充分的利用激光，进而减小投影模组的功耗。

在某些实施方式中，所述反射镀膜包括相背的第一面和第二面，所述反射镀膜为单面反射镀膜，所述第一面或所述第二面为用于反射激光的反光面。或所述反射镀膜为双面反射镀膜，所述第一面与所述第二面均为用于反射激光的反光面。

不同类型的反射镀膜可以适用不同的反光需求，应用范围较广。

在某些实施方式中，所述掩膜包括入光面和出光面，当所述反射镀膜为单面反射镀膜时，所述反射镀膜设置在所述入光面或所述出光面，所述反光面与所述激光的入射方向相对。

掩膜组件通过将单面反射镀膜设置在入光面或出光面，且反光面与激光的入射方向相对，可以将射入到非透光区域的激光朝激光发射器方向反射回去，再由激光发射器的表面反射回来，从而使得激光在掩膜和激光发射器之间来回反射，最终从透光区域射出，激光反射的损耗较小，可以更充分地利用激光，进而减小投影模组的功耗。

在某些实施方式中，所述掩膜包括入光面和出光面，所述反射镀膜包括入光反射镀膜及出光反射镀膜，所述入光反射镀膜为双面反射镀膜并设置在所述入光面，所述出光反射镀膜为单面反射镀膜并设置在所述出光面，所述出光反射镀膜的所述反光面设置在所述出光面并与所述入光反射镀膜的所述反光面相对。

激光不仅可以在掩膜和激光发射器之间来回反射，还可以在掩膜内部来回反射(即在入光面和出光面之间来回反射)，激光在掩膜内部反射时是通过反射镀膜进行反射的，相较于通过激光反射器的表面进行反射，反射效率较高，从而可以更充分地利用激光，进而减小投影模组的功耗。

本发明实施方式的投影模组包括激光发射器和上述任一实施方式的掩膜组件。所述激光发射器用于发射激光。所述掩膜组件用于将所述激光转化为特定图案的激光图案。

本发明实施方式的投影模组中，掩膜组件通过在非透光区域设置反射镀膜，使得激光发射器射向非透光区域的激光不是被吸收而是通过反射镀膜反射回去，激光在掩膜组件和激光发射器之间来回反射并最终从透光区域射出以形成激光图案，相较于激光被非透光区域吸收，激光被反射时损耗较小，从而可以更充分的利用激光，进而减小投影模组的功耗。