[发明专利]化学液槽装置

说明书

本发明涉及一种化学液槽装置，包括：槽体，用于盛放化学液以及待处理的晶圆；三个以上的喷嘴，所述喷嘴为长条形，平行设置于所述槽体的内壁及底部处，与晶圆放置平面垂直，用于向所述槽体内喷入化学液，所述喷嘴的喷液方向与晶圆放置平面平行；各个喷嘴的喷液状态可单独控制。上述化学液槽装置的溶液均一性可控。

技术领域

本发明涉及半导体设备领域，尤其涉及一种化学液槽装置。

背景技术

在半导体工艺中，经常需要将晶圆进入化学液槽内，进行湿法腐蚀或者清洗等工艺。化学液槽内可以盛放酸性溶液、碱性溶液或去离子水等，对应不同的处理工艺。化学液槽装置在处理时间长、高温以及均一性特殊分布的工艺上有相当的必要性，另外还具有高产能低成本的优势。

化学液槽内的化学液循环方向，决定了化学液槽对晶圆的清洗能力或者刻蚀的均一性。化学液槽内设置有喷嘴，通过喷嘴喷出化学液使得化学液槽内的液体流动，以提高化学液内物质浓度分布的均一性。

现有的化学液槽装置内，在槽体内通常设置固定位置以及固定角度的喷嘴，使得化学液槽内的液体流动方向单一，液体的浓度分布的均一性还有待进一步的提高。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是，提供一种化学液槽装置，提高所述化学液槽装置内的液体分布均一性。

本发明提供一种化学液槽装置，包括：槽体，用于盛放化学液以及待处理的晶圆；三个以上的喷嘴，所述喷嘴为长条形，平行设置于所述槽体的内壁处，与晶圆放置平面垂直，用于向所述槽体内喷入化学液，所述喷嘴的喷液方向与晶圆放置平面平行；各个喷嘴的喷液状态可单独控制。

可选的，至少一个喷嘴设置于所述槽底的底部；所述槽体的与晶圆放置平面垂直的相对两侧内壁处各设置相同数量的喷嘴。

可选的，各个喷嘴分别具有不同的喷液方向。

可选的，所述喷嘴具有沿长度方向设置的多个喷孔。

可选的，所述喷嘴包括沿长度方向设置的多个子喷嘴。

可选的，所述三个以上的喷嘴各自通过一支管路连接至总管路，各支管路上均设置有阀门。

可选的，包括7个喷嘴，其中一个设置于槽体底部，另外六个对称设置于槽体的两侧内壁处。

可选的，所述喷嘴包括喷嘴体以及套于所述喷嘴体外部的套管；所述喷嘴体设置有出液口，所述套管具有沿长度方向设置的至少一组喷孔，每一组内的多个喷孔朝向同一方向。

可选的，所述套管的端部与所述喷嘴体之间形成密封腔，用于容纳从喷嘴体内喷出的化学液。

可选的，所述套管具有沿长度方向设置的两组以上的喷孔，不同组的喷孔朝向不同的方向。

可选的，所述套管能够绕所述喷嘴体转动，以调整所述套管上的喷孔的方向。

可选的，所述喷嘴的端部设置有马达，与所述套管连接，用于控制所述套管的转动。

可选的，所述套管与所述喷嘴之间设置有旋转轴承结构，以支撑所述套管转动。

可选的，所述套管设置有3～8组喷孔，分别朝向不同的方向。

本发明的化学液槽装置内具有至少3个以上的喷嘴，各个喷嘴的喷液状态可单独控制。因此可以通过控制不同喷液方向的喷嘴自由搭配，达到工艺所需。

进一步的，每个喷嘴包括喷嘴体和套管，套管上具有不同方向的喷孔，因此在喷液过程中，可以提高槽体内的液体各方向上的流动，提高液体的均一性。进一步的，在喷液过程中，可以控制所述套管转动，不断改变所述套管上的喷孔的喷液方向，使槽体内的液体流向达到工艺需求。根据不同的工艺需求，还可以更换所述喷嘴体外的套管。

附图说明