[发明专利]喷嘴和化学液槽装置有效

专利信息
申请号: 201810990145.9 申请日: 2018-08-28
公开(公告)号: CN108906351B 公开(公告)日: 2021-05-18
发明(设计)人: 徐融;孙文斌;苏界;杨永刚;蒋阳波;廖昌洋 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: B05B1/14 分类号: B05B1/14;B05B3/02;H01L21/67
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人: 董琳
地址: 430074 湖北省武汉市洪山区东*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 喷嘴 化学 装置
【说明书】:

发明涉及一种喷嘴和化学液槽装置,所述喷嘴包括:喷嘴体;套于所述喷嘴体外部的套管,所述套管上具有至少两个朝向不同方向的喷孔。喷嘴在喷液过程中,可以具有多种喷液方向。

技术领域

本发明涉及半导体设备领域,尤其涉及一种喷嘴和化学液槽装置。

背景技术

在半导体工艺中,经常需要将晶圆进入化学液槽内,进行湿法腐蚀或者清洗等工艺。化学液槽内可以盛放酸性溶液、碱性溶液或去离子水等,对应不同的处理工艺。化学液槽装置在处理时间长、高温以及均一性特殊分布的工艺上有相当的必要性,另外还具有高产能低成本的优势。

化学液槽内的化学液循环方向,决定了化学液槽对晶圆的清洗能力或者刻蚀的均一性。化学液槽内设置有喷嘴,通过喷嘴喷出化学液使得化学液槽内的液体流动,以提高化学液内物质浓度分布的均一性。

现有的化学液槽装置内,在槽体内通常设置固定位置以及固定角度的喷嘴,使得化学液槽内的液体流动方向单一,液体的浓度分布的均一性还有待进一步的提高。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是,提供一种喷嘴和一种化学液槽装置,提高所述化学液槽装置内的液体分布均一性。

本发明提供一种喷嘴,包括:喷嘴体;套于所述喷嘴体外部的套管,所述套管上具有至少两个朝向不同方向的喷孔。

可选的,所述套管具有沿长度方向设置的至少两组喷孔,不同组内的喷孔朝向同一方向。

可选的,所述喷嘴体设置有出液口。

可选的,所述套管的端部与所述喷嘴体之间形成密封腔,用于容纳从喷嘴体内喷出的化学液。

可选的,所述套管能够绕所述喷嘴体转动,以调整所述套管上的喷孔的方向。

可选的,所述喷嘴的端部设置有马达,与所述套管连接,用于控制所述套管的转动。

可选的,所述套管与所述喷嘴之间设置有旋转轴承结构,以支撑所述套管转动。

可选的,所述套管设置有3~8组喷孔,分别朝向不同的方向。

本发明的技术方案还提供一种化学液槽装置,包括:槽体,用于盛放化学液以及待处理的晶圆;至少一个上述的喷嘴,所述喷嘴为长条形,设置于所述槽体内壁处,与晶圆放置平面垂直,用于向所述槽体内喷入化学液,所述喷嘴的喷液方向与晶圆放置平面平行。

本发明的化学液槽装置的每个喷嘴包括喷嘴体和套管,套管上具有不同方向的喷孔,喷嘴在喷液过程中,可以具有多种喷液方向,可以提高槽体内的液体各方向上的流动,提高液体的均一性。

进一步的,在喷液过程中,可以控制所述套管转动,不断改变所述套管上的喷孔的喷液方向,使槽体内的液体流向达到工艺需求。根据不同的工艺需求,还可以更换所述喷嘴体外的套管。

附图说明

图1a至图1c为目前的化学液槽装置的喷嘴的几种喷液方向示意图;

图2至图4为本发明一具体实施方式的化学液槽装置的结构示意图;

图5为本发明一具体实施方式的化学液槽装置的液体控制示意图;

图6至图8为本发明一具体实施方式的化学液槽装置的结构示意图;

图9为本发明一具体实施方式的喷嘴的剖面结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明提供的化学液槽装置的具体实施方式做详细说明。

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