[发明专利]游星轮与抛光方法

权利要求书

1.一种游星轮，其特征在于，所述游星轮(10)不具有通孔且不具有凹槽，所述游星轮(10)侧面具有多个周向排列的齿轮(111)。

2.根据权利要求1所述的游星轮，其特征在于，所述游星轮(10)包括齿轮环(11)和设置在所述齿轮环(11)内的内置盘(12)，所述内置盘(12)可随着所述齿轮环(11)同步转动，优选所述内置盘(12)的厚度大于所述齿轮环(11)的厚度，优选地，所述内置盘(12)为圆形盘或多边形盘。

3.根据权利要求2所述的游星轮，其特征在于，所述游星轮(10)还包括定位键(13)，所述齿轮环(11)的内侧面和/或所述内置盘(12)的外侧面具有定位槽，所述定位键(13)位于所述定位槽内且使得所述内置盘(12)可随着所述齿轮环(11)同步运动。

4.根据权利要求3所述的游星轮，其特征在于，所述内置盘(12)的外侧面具有第一定位槽(121)，所述齿轮环(11)的内侧面具有第二定位槽(112)，所述第一定位槽(121)和所述第二定位槽(112)对应设置，所述定位键(13)位于所述第一定位槽(121)和所述第二定位槽(112)形成的孔内。

5.根据权利要求3所述的游星轮，其特征在于，所述齿轮环(11)的内侧面具有第二定位槽(112)，所述定位键(13)设置在所述第二定位槽(112)内。

6.一种抛光方法，其特征在于，所述抛光方法包括：

步骤S1，将晶片(30)设置在权利要求1至5中的任一项所述的游星轮(10)的表面上；

步骤S2，将设置有所述晶片(30)的所述游星轮(10)设置在双面抛光机的第一抛光盘表面上的抛光垫上，且使得所述晶片(30)与所述抛光垫的表面接触设置；以及

步骤S3，开启所述双面抛光机，对所述晶片(30)进行抛光，且所述游星轮(10)的自转方向和所述第一抛光盘旋转方向相同。

7.根据权利要求6所述的抛光方法，其特征在于，所述步骤S1包括：

将抛光模板(20)粘结在所述游星轮(10)的表面上，形成第一结构；以及

将所述晶片(30)吸附在所述抛光模板(20)的远离所述游星轮(10)的一侧，形成第二结构。

8.根据权利要求7所述的抛光方法，其特征在于，形成所述第一结构后，所述步骤S1还包括：

观察所述游星轮(10)和所述抛光模板(20)之间是否有气泡，当有所述气泡时，将所述抛光模板(20)取下，重新粘结在所述游星轮(10)上，直到所述游星轮(10)和所述抛光模板(20)之间没有气泡；以及

向所述第一结构表面喷去离子水，使得所述第一结构的表面湿润。

9.根据权利要求7所述的抛光方法，其特征在于，所述抛光模板(20)的远离所述游星轮(10)的表面为第一表面，所述第一表面对应的平面为第一平面，所述晶片(30)在所述第一平面上的投影位于所述第一表面内；所述游星轮(10)的靠近所述抛光模板(20)的表面为第二表面，所述第二表面对应的平面为第二平面，所述抛光模板(20)在所述第二平面上的投影位于所述第二表面内。

10.根据权利要求6所述的抛光方法，其特征在于，所述步骤S3中，所述双面抛光机的第一抛光盘的转速在20～50rpm之间，所述双面抛光机的第二抛光盘的转速在3～25rpm之间。