[发明专利]一种真空磁控溅射用新型平面阴极

权利要求书

1.一种真空磁控溅射用新型平面阴极，包括阴极罩(6)，其特征在于：所述阴极罩(6)的内部中间设有防护基座(14)，所述阴极罩(6)的下表面通过螺栓连接的方式连接有铜背板(4)，铜背板(4)的上表面与防护基座(14)之间均匀连接有固定磁铁(12)和电磁板(9)，铜背板(4)的内部设有冷却管路(11)，所述铜背板(4)的下表面设有凹槽，该凹槽的内部设有靶材(10)，所述防护基座(14)的上表面设有冷却液盛放箱(15)和变阻器(18)，变阻器(18)的输出端电连接电磁板(9)的输入端，所述阴极罩(6)的上表面设有上端连接板(8)，上端连接板(8)的上表面设有抽气泵(1)和冷凝器(7)，所述抽气泵(1)的出气口通过导管与冷凝器(7)的进气口连接，冷凝器(7)的出气口通过导管与连接外壳(2)的进气口连接，连接外壳(2)的内部设有散热管(3)，散热管(3)的进水口通过导管与冷却管路(11)，阴极罩(6)的一侧通过螺栓连接有抽水泵(16)，抽水泵(16)的进水口通过导管与冷却液盛放箱(15)的一侧下端连接，冷却液盛放箱(15)的上端进水口通过导管与散热管(3)的出水口连接，所述抽水泵(16)的出水口通过导管与冷却管路(11)的进水口连接，所述上端连接板(8)的上表面设有PLC控制器(17)，PLC控制器(17)的输入端电连接外部电源的输出端，PLC控制器(17)的输出端电连接抽水泵(16)、冷凝器(7)和变阻器(18)的输入端。

2.根据权利要求1所述的一种真空磁控溅射用新型平面阴极，其特征在于：所述靶材(10)通过螺栓连接的方式与铜背板(4)连接，并且靶材(10)的下表面低于铜背板(4)的下表面。

3.根据权利要求1所述的一种真空磁控溅射用新型平面阴极，其特征在于：所述阴极罩(6)的侧面中间通过焊接的方式连接有安装耳板(5)，安装耳板(5)上设有固定螺栓孔，固定螺栓孔的内侧设有内螺纹。

4.根据权利要求1所述的一种真空磁控溅射用新型平面阴极，其特征在于：所述连接外壳(2)为锥形结构，并且连接外壳(2)的下端与上端连接板(8)的上表面之间设有支撑柱。

5.根据权利要求1所述的一种真空磁控溅射用新型平面阴极，其特征在于：所述散热管(3)的螺旋结构，并且散热管(3)与连接外壳(2)的内侧相互贴合，并且散热管(3)的外侧通过焊接的方式连接有散热板。

6.根据权利要求1所述的一种真空磁控溅射用新型平面阴极，其特征在于：所述固定磁铁(12)的个数不少于三个，并且电磁板(9)的个数不少于两个，并且固定磁铁(12)和电磁板(9)间隔分布。

7.根据权利要求1所述的一种真空磁控溅射用新型平面阴极，其特征在于：所述铜背板(4)的上表面均匀焊接有吸热板(13)，吸热板(13)位于阴极罩(6)的内部。

8.根据权利要求1所述的一种真空磁控溅射用新型平面阴极，其特征在于：所述防护基座(14)通过螺栓连接的方式与阴极罩(6)连接，防护基座(14)的侧面与阴极罩(6)的内侧之间设有封闭圈。

9.根据权利要求1所述的一种真空磁控溅射用新型平面阴极，其特征在于：所述冷却管路(11)位于铜背板(4)的中间，并且冷却管路(11)为S型结构。

10.根据权利要求3所述的一种真空磁控溅射用新型平面阴极，其特征在于：所述安装耳板(5)的个数为四个，四个安装耳板(5)分别位于阴极罩(6)的四角。