[发明专利]掩膜组件及其制造方法

权利要求书

1.一种掩膜组件，包括框架、固定设置在所述框架上的第一掩膜板和叠设在所述第一掩膜板上的第二掩膜板，其特征在于，所述第一掩膜板包括均固定连接于所述框架的至少两条异型条状掩膜体和至少两条遮挡体，所述异型条状掩膜体和所述遮挡体交叉排布形成对应于所述第二掩膜板蒸镀区的至少一个异型开口区，所述异型开口区的正投影位于对应的所述蒸镀区内；

所述异型条状掩膜体包括：

异型遮挡片，用于围成所述异型开口区；以及

支撑条，与所述异型遮挡片的延伸方向一致且固定设置在所述异型遮挡片上，用于和所述第二掩膜板接触贴合；

其中所述支撑条之间形成一间隔所述第二掩膜板和所述异型遮挡片接触的间隔空间。

2.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述间隔空间的高度为所述异型遮挡片和所述支撑条厚度之和的50％-60％。

3.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述异型遮挡片包括：

固定部，用于和所述支撑条固定连接；以及

凸出结构部，自所述固定部的边缘向外延伸，所述凸出结构部的边缘用于形成所述异型开口区；

所述凸出结构部位于所述异型条状掩膜体和所述遮挡体的交叉处，所述遮挡体设置在所述凸出结构部背向所述支撑条的一面上，以遮挡相邻两条所述异型遮挡片之间的间隙。

4.根据权利要求3所述的掩膜组件，其特征在于，所述凸出结构部和所述遮挡体焊接固定。

5.根据权利要求3所述的掩膜组件，其特征在于，所述异型开口区为圆角矩形，所述蒸镀区为矩形，所述第二掩膜板还包括围设在所述蒸镀区周围的缓冲区；

所述凸出结构部包括相互平行的两条底边和分别与所述两条底边相连的两条圆弧边，所述两条圆弧边在所述第二掩膜板上的正投影位于所述蒸镀区内，所述两条底边在所述第二掩膜板的正投影位于所述缓冲区内。

6.根据权利要求3所述的掩膜组件，其特征在于，所述支撑条位于所述固定部的中心线上。

7.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述支撑条和所述异型遮挡片为一体成型结构或所述支撑条焊接在所述异型遮挡片上。

8.根据权利要求1所述的掩膜组件，其特征在于，所述框架上设置有对向设置的第一放置槽和对向设置的第二放置槽，所述异型条状掩膜体固定连接于所述第一放置槽，所述遮挡体固定连接于所述第二放置槽；所述第一放置槽的深度小于所述第二放置槽的深度。

9.一种制造权利要求1-8任一项所述的掩膜组件的方法，其特征在于，所述制造掩膜组件的方法的步骤包括：

提供框架；

在所述框架上设置所述第一掩膜板，所述第一掩膜板包括至少两条异型条状掩膜体和至少两条遮挡体，所述异型条状掩膜体和所述遮挡体形成对应于所述第二掩膜板蒸镀区的至少一个异型开口区；

在所述第一掩膜板上设置所述第二掩膜板，所述异型开口区的正投影位于对应的所述蒸镀区内。

10.根据权利要求9所述的制造掩膜组件的方法，其特征在于，所述在所述框架上设置所述第一掩膜板的步骤包括：

通过刻蚀工艺将所述异型条状掩膜体一体成型，所述异型条状掩膜体包括所述异型遮挡片和设置在所述异型遮挡片上的所述支撑条，所述支撑条之间形成一间隔所述第二掩膜板和所述异型遮挡片接触的间隔空间；

将所述遮挡体固定在所述框架上；

将所述异型条状掩膜体以与所述遮挡体交叉排布的方式固定在所述框架上，所述异型遮挡片包括用于和所述支撑条固定连接的固定部和自所述固定部的边缘向外延伸的凸出结构部，所述凸出结构部的边缘用于形成所述异型开口区，所述凸出结构部位于所述异型条状掩膜体和所述遮挡体的交叉处；

将所述异型遮挡片和所述遮挡体进行焊接。