[发明专利]掩膜组件及其制造方法有效
申请号: | 201811005162.9 | 申请日: | 2018-08-30 |
公开(公告)号: | CN108754419B | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 林治明 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组件 及其 制造 方法 | ||
本申请提供一种掩膜组件及其制造方法,其包括异型条状掩膜体,异型条状掩膜体包括异型遮挡片和支撑条,支撑条之间形成一间隔第二掩膜板和异型遮挡片接触的间隔空间。本申请通过异型条状掩膜体的间隔空间的设置,避免了第二掩膜板和第一掩膜板的异型条状掩膜体存在非线性接触的情况,提高了玻璃基板和第二掩膜板贴合的均匀性。
技术领域
本申请涉及一种显示技术领域,特别涉及一种掩膜组件及其制造方法。
背景技术
随着信息社会的发展,有机电激发光二极管(OLED)由于同时具备自发光,不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优异之特性,被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。
目前OLED工艺中的蒸镀工艺段,主要用FMM(精密掩膜板)作为遮罩模具,限制蒸镀材料到确定的位置上,进而完成RGB像素的蒸镀,在通电的情况下,进行自主发光。
在蒸镀工艺中使用的掩膜组件包括框架、设置在框架上的带圆角开口的CMM(一般掩膜板遮罩)和设置在CMM上的具有方形蒸镀区的FMM,二者进行匹配,通过CMM的遮挡作用,进而达到利用方形FMM生产圆角显示基板的目的。
因为整个CMM焊接在框架上时,而FMM层叠设置在CMM上,使得FMM的蒸镀区和CMM的圆角开口贴合,由于FMM和圆角开口的接触为非线性接触,因此圆角开口会出现应力释放不均的情况,导致双层掩膜板和玻璃基板接触时容易出现贴合不均,蒸镀之后,玻璃基板的相应区域产生亮度不均的情况,甚至出现圆角的边缘对应的FMM区域被损伤的情况。
发明内容
本申请实施例提供一种掩膜组件及其制造方法;以解决现有的掩膜组件在和玻璃基板接触时,容易出现贴合不均,蒸镀之后,显示基板的相应区域产生亮度不均的情况,甚至出现圆角的边缘对应的FMM区域被损伤的情况的技术问题。
本申请实施例提供一种掩膜组件,其包括框架、固定设置在所述框架上的第一掩膜板和叠设在所述第一掩膜板上的第二掩膜板,所述第一掩膜板包括均固定连接于所述框架的至少两条异型条状掩膜体和至少两条遮挡体,所述异型条状掩膜体和所述遮挡体交叉排布形成对应于所述第二掩膜板蒸镀区的至少一个异型开口区,所述异型开口区的正投影位于对应的所述蒸镀区内;
所述异型条状掩膜体包括:
异型遮挡片,用于围成所述异型开口区;以及
支撑条,与所述异型遮挡片的延伸方向一致且固定设置在所述异型遮挡片上,用于和所述第二掩膜板接触贴合;
其中所述支撑条之间形成一间隔所述第二掩膜板和所述异型遮挡片接触的间隔空间。
在本申请的掩膜组件中,所述间隔空间的高度为所述异型遮挡片和所述支撑条厚度之和的50%-60%。
在本申请的掩膜组件中,所述异型遮挡片包括:
固定部,用于和所述支撑条固定连接;以及
凸出结构部,自所述固定部的边缘向外延伸,所述凸出结构部的边缘用于形成所述异型开口区;
所述凸出结构部位于所述异型条状掩膜体和所述遮挡体的交叉处,所述遮挡体设置在所述凸出结构部背向所述支撑条的一面上,以遮挡相邻两条所述异型遮挡片之间的间隙。
在本申请的掩膜组件中,所述凸出结构部和所述遮挡体焊接固定。
在本申请的掩膜组件中,所述异型开口区为圆角矩形,所述蒸镀区为矩形,所述第二掩膜板还包括围设在所述蒸镀区周围的缓冲区;
所述凸出结构部包括相互平行的两条底边和分别与所述两条底边相连的两条圆弧边,所述两条圆弧边在所述第二掩膜板上的正投影位于所述蒸镀区内,所述两条底边在所述第二掩膜板的正投影位于所述缓冲区内。
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