[发明专利]有机EL显示面板、有机EL显示装置及其制造方法

说明书

本申请公开了一种有机EL显示面板、有机EL显示装置及其制造方法，由于具备具有高覆盖性的氮化硅膜，提高了有机EL元件的保护性能。该有机EL显示面板具备：基板；形成于所述基板上的多个有机EL元件；配置于所述多个有机EL元件的上方，并按照第一密封层、第二密封层、第三密封层的顺序层叠而成的密封层；所述第一密封层、所述第二密封层、所述第三密封层分别由非晶质氮化硅构成，当所述第一密封层、所述第二密封层、所述第三密封层各自的组成为SiN_x时，第二密封层组成中x的值大于第一密封层组成中x的值和第三密封层组成中x的值中任一方。

技术领域

本公开涉及有机EL显示面板、使用该有机EL显示面板的显示装置及其制造方法，尤其涉及密封层耐久性的改进。

背景技术

有机EL显示面板中，为了使二维配置的多个有机EL元件整体免于水或气体等引起的劣化，设有密封层。以往，密封层由氮化硅(SiN)等形成，形成方法使用等离子体CVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition：等离子体增强化学气相沉积)。由于氮化硅膜成膜时，提高膜密度而增强密封性，密封层的耐弯曲性会极度减小，因此覆盖部位存在台阶障壁或异物时的覆盖性降低。因此，例如，在专利文献1的密封层中，通过氮化硅膜-有机膜-氮化硅膜的3层结构，使用有机膜来平整台阶障壁，以防止有机膜上的氮化硅膜的覆盖性降低，提高覆盖性。

然而，在专利文献1的密封层中，存在当有机膜和氮化硅膜之间混入异物时，覆盖性降低的问题。尤其是，有机膜形成后、氮化硅膜形成前，有机膜表面附着异物时，氮化硅膜的覆盖性降低，可能会产生裂纹。这种情况下，由于有机膜的密封性不高，会存在密封性降低的情况。特别是，由于有机膜对于水的密封性不高，造成密封层整体对于水的密封性降低。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平11-21975号公报

发明内容

鉴于上述问题点，本公开的目的在于提供一种有机EL显示面板，由于具备具有高覆盖性的氮化硅膜，提高了有机EL元件的保护性能。

为实现上述目的，本公开的一方案的有机EL显示面板具备：基板；多个有机EL元件，形成于所述基板上；以及密封层，配置于所述多个有机EL元件的上方，并按照第一密封层、第二密封层、第三密封层的顺序层叠而成，所述第一密封层、所述第二密封层、所述第三密封层分别由非晶质氮化硅构成，当所述第一密封层、所述第二密封层、所述第三密封层各自的组成为SiN_x时，第二密封层组成中x的值大于第一密封层组成中x的值和第三密封层组成中x的值中任一方。

在上述方案的有机EL显示面板中，由于第二密封层具有吸水性，所以即使密封层产生裂纹，也能够抑制对于水的密封性的降低。

附图说明

图1为实施方式的有机EL显示面板1的结构的截面示意图。

图2为实施方式的有机EL显示面板1中异物x1上的密封层108的状态的截面示意图。

图3为实施方式的第一密封层108a和第二密封层108b各自的吸水加速试验的结果的示意图。

图4为实施方式的通过EDX对吸水加速试验后的密封层截面中Si、N、O的存在位置进行检测的结果的示意图。

图5为实施方式的有机EL显示面板1的制造过程的流程图。

图6的(a)为实施方式的用于密封层成膜的装置的截面示意图，图6的(b)为成膜条件的一示例图。

图7为实施方式的密封膜108的成膜工序的流程图。

图8为氮化硅的组成和折射率的关系的示意图。

附图标记说明