[发明专利]铜/钼膜层用蚀刻液组合物

权利要求书

1.一种铜/钼膜层用蚀刻液组合物，其特征在于，包括：

混合均匀的氧化剂、有机酸、蚀刻调节剂、无机盐、螯合剂、蚀刻抑制剂、以及溶剂；

其中，相对于整体组合物的质量，所述氧化剂的质量分数为5％～15％，所述有机酸的质量分数为4％～13％，所述蚀刻调节剂的质量分数为0.1％～5％，所述无机盐的质量分数为0.1％～5％，所述螯合剂的质量分数为0.5％～9％，所述蚀刻抑制剂的质量分数为0.001％～1％，余量为所述溶剂。

2.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述氧化剂为过氧化氢。

3.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述溶剂为去离子水。

4.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述有机酸选自乙酸、羟基乙酸、2-羟基丙烷-1,2,3-三羧酸、苯甲酸、乙二酸、丁二酸、2,3-二羟基丁二酸、2－羟基丁二酸、2-羟基丙酸、邻苯二甲酸中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述蚀刻调节剂为胺类化合物。

6.根据权利要求5所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述蚀刻调节剂选自二异丙醇胺、聚丙烯酰胺、间苯二胺、对氯苯胺、一异丙醇胺中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述无机盐选自钠盐、镁盐、钾盐中的至少一种。

8.根据权利要求7所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述无机盐选自氯化钠、氯化镁、氯化钾、硫酸钠、硫酸镁、硫酸钾、硝酸钠、硝酸镁、硝酸钾、醋酸钠、乙酸镁、乙酸钾中的至少一种。

9.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述螯合剂选自锡酸钠、焦磷酸钠、8-羟基喹啉、壳聚糖中的至少一种。

10.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其特征在于，所述蚀刻抑制剂选自6-硝基苯并咪唑、2-氨基噻唑、2-氨基-5-硝基噻唑、5-氨基四氮唑、3-氨基-1,2,4-三唑、苯骈三氮唑、苯并三唑、唑氮钠、疏基苯并三氮唑中的至少一种。