[发明专利]铜/钼膜层用蚀刻液组合物

说明书

一种铜/钼膜层用蚀刻液组合物，包括混合均匀的氧化剂、有机酸、蚀刻调节剂、无机盐、螯合剂、蚀刻抑制剂、以及溶剂；其中，相对于整体组合物的质量，所述氧化剂的质量分数为5％～15％，所述有机酸的质量分数为4％～13％，所述蚀刻调节剂的质量分数为0.1％～5％，所述无机盐的质量分数为0.1％～5％，所述螯合剂的质量分数为0.5％～9％，所述蚀刻抑制剂的质量分数为0.001％～1％，余量为所述溶剂。有益效果：本发明提供的铜/钼膜层用蚀刻液组合物，降低了药液对环境和器件的影响，提高了刻蚀效率和刻蚀稳定性。

技术领域

本发明涉及铜制程刻蚀领域，尤其涉及一种铜/钼膜层用蚀刻液组合物。

背景技术

近年来，随着显示器的需求量的增加，人们对产品的质量和画面精度也提出了更高的要求，而蚀刻的效果好坏，直接影响电路板制造工艺的好坏，进而影响显示图像的质量。随着显示器尺寸的增大，与薄膜晶体管连接的栅极线和数据线等金属配线的长度会增加，随之金属配线的电阻会增加，会产生信号延迟等问题。

目前，显示器的金属配线通常采用铜金属，相较于铝金属，铜的电阻值低，加工性能优异，铜导线的线宽不需要达到铝导线的宽度，就能提高显示器的穿透度和背光源的使用效率，因此铜导线更加适合用于高分辨面板的制作。

显示面板中铜制程图案的形成一般为：先在基板上形成铜/钼薄膜，钼能够增加铜与基板的贴附性，同时能够阻止铜在基板上的扩散；再在铜/钼薄膜上形成预定图案的光刻胶；之后，利用蚀刻液对铜/钼薄膜进行刻蚀，以形成金属线路。但是，传统的含氟蚀刻液具有腐蚀性，刻蚀效率低下，稳定性差，且对环境不友好。

发明内容

本发明提供一种铜/钼膜层用蚀刻液组合物，以解决现有的蚀刻液，由于含有氟化物，对器件和环境产生负面影响，且刻蚀效率低下，进而影响显示的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明提供一种铜/钼膜层用蚀刻液组合物，包括混合均匀的氧化剂、有机酸、蚀刻调节剂、无机盐、螯合剂、蚀刻抑制剂、以及溶剂；其中，相对于整体组合物的质量，所述氧化剂的质量分数为5％～15％，所述有机酸的质量分数为4％～13％，所述蚀刻调节剂的质量分数为0.1％～5％，所述无机盐的质量分数为0.1％～5％，所述螯合剂的质量分数为0.5％～9％，所述蚀刻抑制剂的质量分数为0.001％～1％，余量为所述溶剂。

在本发明的至少一种实施例中，所述氧化剂为过氧化氢。

在本发明的至少一种实施例中，所述溶剂为去离子水。

根据本发明一优选实施例，所述有机酸选自乙酸、羟基乙酸、2-羟基丙烷-1,2,3-三羧酸、苯甲酸、乙二酸、丁二酸、2,3-二羟基丁二酸、2－羟基丁二酸、2-羟基丙酸、邻苯二甲酸中的至少一种。

在本发明的至少一种实施例中，所述蚀刻调节剂为胺类化合物。

在本发明的至少一种实施例中，所述蚀刻调节剂选自二异丙醇胺、聚丙烯酰胺、间苯二胺、对氯苯胺、一异丙醇胺中的至少一种。

在本发明的至少一种实施例中，所述无机盐选自钠盐、镁盐、钾盐中的至少一种。

在本发明的至少一种实施例中，所述无机盐选自氯化钠、氯化镁、氯化钾、硫酸钠、硫酸镁、硫酸钾、硝酸钠、硝酸镁、硝酸钾、醋酸钠、乙酸镁、乙酸钾中的至少一种。

在本发明的至少一种实施例中，所述螯合剂选自锡酸钠、焦磷酸钠、8-羟基喹啉、壳聚糖中的至少一种。

在本发明的至少一种实施例中，所述蚀刻抑制剂选自6-硝基苯并咪唑、2-氨基噻唑、2-氨基-5-硝基噻唑、5-氨基四氮唑、3-氨基-1,2,4-三唑、苯骈三氮唑、苯并三唑、唑氮钠、疏基苯并三氮唑中的至少一种。