[发明专利]等离子体探测装置和等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体探测装置，其特征在于，包括：

天线部，其隔着将真空空间与大气空间之间密封的密封部件安装于开口部中，其中，所述开口部形成在处理容器的壁部或载置台；

与所述天线部连接的电极；和

由电介质形成的对所述天线部从周围进行支承的电介质支承部，

所述天线部的前端面与所述壁部或所述载置台的相对面以规定的距离隔开间隔，所述天线部的从所述开口部露出的前端面，与形成有该开口部的所述壁部或所述载置台的等离子体生成空间侧的面相比凹入到内侧，所述相对面是所述壁部或所述载置台的开口部附近的与所述天线部的前端面相对的所述壁部或所述载置台的背面。

2.如权利要求1所述的等离子体探测装置，其特征在于：

所述天线部的前端部为圆盘状，所述电介质支承部的深度方向的尺寸与该前端部的直径的比值为0.44～0.54的范围内的任一值。

3.如权利要求1或2所述的等离子体探测装置，其特征在于：

在所述天线部的前端面形成有凹部和凸部的至少任一者。

4.如权利要求1或2所述的等离子体探测装置，其特征在于：

所述天线部的前端面弯曲为凹状或凸状。

5.如权利要求1或2所述的等离子体探测装置，其特征在于：

所述天线部的前端面和该开口部的周围的所述壁部或所述载置台的面中的至少从所述开口部至所述密封部件的区域由Y₂O₃膜覆盖。

6.如权利要求1或2所述的等离子体探测装置，其特征在于：

所述电介质支承部由PTFE形成。

7.如权利要求1或2所述的等离子体探测装置，其特征在于：

多个所述天线部隔着所述密封部件安装于圆周方向上所配置的多个所述开口部中。

8.如权利要求1或2所述的等离子体探测装置，其特征在于：

多个所述开口部等间隔地配置在圆周方向上，具有隙缝状。

9.如权利要求1或2所述的等离子体探测装置，其特征在于：

多个所述开口部设置在所述处理容器的侧壁部、所述处理容器的顶壁和所述载置台的外周部的至少任一者。

10.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：

将从微波等离子体源的输出部输出的微波辐射到处理容器内的多个微波辐射机构；和

等离子体探测装置，

所述等离子体探测装置包括：

天线部，其隔着将真空空间与大气空间之间密封的密封部件安装于开口部中，其中，所述开口部形成在所述处理容器的壁部或载置台；

与所述天线部连接的电极；和

由电介质形成的对所述天线部从周围进行支承的电介质支承部，

所述天线部的前端面与所述壁部或所述载置台的相对面以规定的距离隔开间隔，所述天线部的从所述开口部露出的前端面，与形成有该开口部的所述壁部或所述载置台的等离子体生成空间侧的面相比凹入到内侧，所述相对面是所述壁部或所述载置台的开口部附近的与所述天线部的前端面相对的所述壁部或所述载置台的背面。

11.如权利要求10所述的等离子体处理装置，其特征在于：

具有多个所述等离子体探测装置，

多个所述天线部隔着所述密封部件安装于圆周方向上所配置的多个所述开口部中。