[发明专利]等离子体探测装置和等离子体处理装置

说明书

本发明提供一种等离子体探测装置，其包括：天线部，其隔着将真空空间与大气空间之间密封的密封部件安装于开口部中，其中，上述开口部形成在处理容器的壁部或载置台；与上述天线部连接的电极；和由电介质形成的对上述天线部从周围进行支承的电介质支承部，上述天线部与上述壁部或上述载置台的相对面以规定的距离隔开间隔，上述天线部的从上述开口部露出的面，与形成有该开口部的上述壁部或上述载置台的等离子体生成空间侧的面相比凹入到内侧。由此，能够提供避免气体侵入的等离子体探测装置。

技术领域

本发明涉及等离子体探测装置以及等离子体处理装置。

背景技术

一直以来，通过将用于测定等离子体的状态的探测器插入腔室内，从测定用电源将测定用电力供给到腔室内来测定等离子体的状态(例如参照专利文献1～3)。例如专利文献1中公开的探测器包括辐射电力的天线、传送测定用电力的同轴电缆和前端被封闭的电介质制的管，将天线与同轴电缆连接后插入到电介质制的管内。通过该配置的探测器，探测生成等离子体后的等离子体的变动。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004-55324号公报

专利文献2：日本特开2005-277397号公报

专利文献3：日本特开平6-68825号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

但是，在现有的探测器构造中，沿着腔室的壁部、或者比腔室的壁部更向等离子体生成空间侧突出地配置探测器。因此，气体或等离子体处理时生成的生成物等，容易进入到面向等离子体生成空间配置的探测器与腔室的壁部之间产生的间隙中，成为颗粒产生的原因。

另外，在现有的探测器结构中，还存在气体侵入到探测器的内部，产生由探测器的内部的腐蚀引起的性能劣化和成膜残渣的问题。

针对上述问题，在一个方面中，本发明的目的在于提供一种避免气体的侵入的等离子体探测装置。

用于解决问题的技术方案

为了解决上述问题，根据一个方式，提供一种等离子体探测装置，其包括：天线部，其隔着将真空空间与大气空间之间密封的密封部件安装于开口部中，其中，上述开口部形成在处理容器的壁部或载置台；与上述天线部连接的电极；和由电介质形成的对上述天线部从周围进行支承的电介质支承部，上述天线部与上述壁部或上述载置台的相对面以规定的距离隔开间隔，上述天线部的从上述开口部露出的面，与形成有该开口部的上述壁部或上述载置台的等离子体生成空间侧的面相比凹入到内侧。

根据另一方式，提供一种等离子体处理装置，其包括：将从微波等离子体源的输出部输出的微波辐射到处理容器内的多个微波辐射机构；和等离子体探测装置，上述等离子体探测装置包括：天线部，其隔着将真空空间与大气空间之间密封的密封部件安装于开口部中，其中，上述开口部形成在上述处理容器的壁部或载置台；与上述天线部连接的电极；和由电介质形成的对上述天线部从周围进行支承的电介质支承部，上述天线部与上述壁部或上述载置台的相对面以规定的距离隔开间隔，上述天线部的从上述开口部露出的面，与形成有该开口部的上述壁部或上述载置台的等离子体生成空间侧的面相比凹入到内侧。

发明的效果

根据一个方面，能够提供避免气体侵入的等离子体探测装置。

附图说明

图1是表示一实施方式的微波等离子体处理装置的一个例子的图。

图2是表示一实施方式的微波等离子体处理装置的顶部的内壁的一个例子的图。

图3是表示一实施方式的等离子体探测装置的结构的一个例子的图。

图4是表示一实施方式的等离子体探测装置的配置的一个例子的图。