[发明专利]喷墨打印方法和显示基板的制备方法在审
申请号: | 201811031391.8 | 申请日: | 2018-09-05 |
公开(公告)号: | CN109166983A | 公开(公告)日: | 2019-01-08 |
发明(设计)人: | 代青;侯文军 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L27/32 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 汪源;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理基板 像素开口 墨滴 喷墨打印 距离增大 显示基板 显示面板 相邻像素 拉伸 预设 制备 开口 干燥成膜 混色问题 精度误差 拉伸状态 喷墨工艺 最大像素 容忍度 分辨率 喷入 恢复 | ||
1.一种喷墨打印方法,其特征在于,包括:
拉伸待处理基板,以使得所述待处理基板内在预设方向上相邻的像素开口之间的距离增大;
向所述像素开口中喷入墨滴;
对所述像素开口中的墨滴进行干燥成膜处理,并将处于拉伸状态的待处理基板恢复至初始状态。
2.根据权利要求1所述的喷墨打印方法,其特征在于,所述待处理基板内的所述像素开口呈行列阵列排布;
所述预设方向包括:行方向和/或列方向。
3.根据权利要求1所述的喷墨打印方法,其特征在于,处于初始状态的所述待处理基板内在预设方向上相邻的所述像素开口之间的距离为L1;
经过拉伸后的所述待处理基板内在预设方向上相邻的所述像素开口之间的距离为L2,L2与L1的比值为Q;
Q的取值范围包括:(1,3]。
4.根据权利要求1所述的喷墨打印方法,其特征在于,在拉伸待处理基板的过程中,还使得所述像素开口的尺寸增大。
5.根据权利要求4所述的喷墨打印方法,其特征在于,处于初始状态的所述待处理基板内的所述像素开口的面积为S1;
经过拉伸后的所述待处理基板内的所述像素开口的面积为S2,S2与S1的比值为P;
P的取值范围包括:(1,4]。
6.根据权利要求1所述的喷墨打印方法,其特征在于,在所述拉伸待处理基板的步骤和所述向所述像素开口中喷入墨滴的步骤之间,还包括:
将处于拉伸状态的所述待处理基板固定于托盘上。
7.根据权利要求6所述的喷墨打印方法,其特征在于,处于拉伸状态的所述待处理基板的四周边缘与所述托盘固定。
8.根据权利要求6所述的喷墨打印方法,其特征在于,所述对所述像素开口中的墨滴进行干燥成膜处理,并将处于拉伸状态的待处理基板恢复至初始状态的步骤包括:
将处于拉伸状态的所述待处理基板与所述托盘之间解除固定,处于拉伸状态的所述待处理基板在自身弹力的作用下恢复至初始状态;
将所述待处理基板置于干燥腔室中,并对所述待处理基板中的墨滴进行干燥成膜处理,以使得所述墨滴转变为薄膜。
9.根据权利要求6所述的喷墨打印方法,其特征在于,所述对所述像素开口中的墨滴进行干燥成膜处理,并将处于拉伸状态的待处理基板恢复至初始状态的步骤包括:
将处于拉伸状态的所述待处理基板和与所述待处理基板固定的所述托盘置于干燥腔室中;
将处于拉伸状态的所述待处理基板与所述托盘之间解除固定;
对所述待处理基板中的墨滴进行干燥成膜处理,以使得所述墨滴转变为薄膜,与此同时,处于拉伸状态的所述待处理基板在自身弹力的作用下恢复至初始状态。
10.一种显示基板的制备方法,其特征在于,包括:
在衬底基板上形成像素驱动电路和像素界定层,所述像素界定层上形成有若干个像素开口;
采用上述权利要求1-9中任一所述的喷墨打印方法在所述像素开口中形成发光层薄膜。
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