[发明专利]晶振探头结构和蒸镀装置有效
申请号: | 201811042628.2 | 申请日: | 2018-09-07 |
公开(公告)号: | CN108823545B | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 杨一帆;曹鹏;赵明;卿万梅 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/54 | 分类号: | C23C14/54;C23C14/24 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 赵国荣 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 探头 结构 装置 | ||
1.一种晶振探头结构,包括:
导流罩,包括带有导流口的腔室,所述导流口使得所述腔室与外界连通;
晶振头,固定于所述腔室内,所述晶振头包括基座以及至少一个晶振片,所述晶振片固定在所述基座的面向所述导流口的一侧;
网筛结构,包括多个开孔,所述网筛结构设置于所述导流罩且位于所述晶振头的面向所述导流口的一侧,以及
驱动单元,位于所述基座上,
其中,所述导流口和所述网筛结构为圆形,所述至少一个晶振片中的一个在所述基座上的正投影位于所述导流口在所述基座上的正投影之内,所述导流口的内径与所述网筛结构的直径相等,
所述至少一个晶振片包括至少两个所述晶振片,设置在所述基座上,
所述基座上设置有遮挡板,所述遮挡板位于至少两个所述晶振片和所述导流口之间,至少两个所述晶振片中的一个在所述基座上的正投影位于所述遮挡板在所述基座上的正投影之外,至少两个所述晶振片中的其它在所述基座上的正投影位于所述遮挡板在所述基座上的正投影之内,
所述驱动单元与所述遮挡板连接,并且所述驱动单元配置为驱动所述遮挡板旋转,以使得至少两个所述晶振片依次暴露于所述导流口。
2.根据权利要求1所述的晶振探头结构,其中,
所述网筛结构固定于所述导流口。
3.根据权利要求2所述的晶振探头结构,其中,
所述开孔以所述网筛结构的圆心为中心向外均匀排布。
4.根据权利要求1所述的晶振探头结构,其中,
所述网筛结构的开口率为1/10~1/2。
5.根据权利要求1所述的晶振探头结构,其中,
所述开孔的形状包括三角形、圆形、矩形和多边形之一。
6.根据权利要求3所述的晶振探头结构,其中,
所述开孔为圆形,并且所述开孔的直径为0.5~4毫米。
7.根据权利要求1所述的晶振探头结构,其中,
所述导流罩为圆筒形。
8.根据权利要求1所述的晶振探头结构,其中,所述腔室的内径和所述导流口的内径相等。
9.根据权利要求1-7任一项所述的晶振探头结构,其中,
所述晶振片中的一个在所述基座上的正投影位于所述导流口在所述基座上的正投影之外,所述晶振片中的其它在所述基座上的正投影位于所述导流口在所述基座上的正投影之内。
10.一种蒸镀装置,包括权利要求1-9中任一项所述的晶振探头结构。
11.根据权利要求10所述的蒸镀装置,还包括蒸镀室、蒸发源和待蒸镀基板固定结构,其中,
所述蒸发源、所述待蒸镀基板固定结构和所述晶振探头结构位于所述蒸镀室中,所述待蒸镀基板固定结构和所述晶振探头结构并列设置于所述蒸发源的同一侧,以及
所述晶振探头结构的所述导流口面向所述蒸发源。
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