[发明专利]一种掩膜版、OLED显示基板及其制备方法有效
| 申请号： | 201811043801.0 | 申请日： | 2018-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN109136834B | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 李国伟;孙泉钦;李端明;杨晓东;郜明浩;张杨扬;刘丹 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L27/32;H01L51/00;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 oled 显示 及其 制备 方法 | ||
1.一种OLED显示基板的制备方法，其特征在于，包括以下制备步骤：
在衬底上方形成像素限定层；
采用掩膜版进行曝光以将所述像素限定层图案化得到多个像素限定结构；所述掩膜版包括遮光区、开口区，以及设于所述遮光区、开口区之间的多个半透光区；所述半透光区的透光率不同，且由靠近遮光区一侧的半透光区至靠近开口区一侧的半透光区的透光率依次递增；
形成封装结构。
2.根据权利要求1所述的OLED显示基板的制备方法，其特征在于，所述形成封装结构包括形成有机封装层。
3.根据权利要求2所述的OLED显示基板的制备方法，其特征在于，所述形成有机封装层是采用液态有机墨水流平后再固化形成。
4.一种OLED显示基板，其特征在于，包括衬底，以及设于所述衬底上方的多个像素限定结构，所述多个像素限定结构限定出像素区域，其中，每个像素限定结构靠近衬底的侧为第一面，背离衬底的侧为第二面，第一面与第二面之间通过侧面连接，所述侧面具有至少三个坡；所述像素限定结构背离衬底的一侧设有封装结构。
5.根据权利要求4所述的OLED显示基板，其特征在于，最靠近衬底的坡的坡度角小于或等于20°。
6.根据权利要求4所述的OLED显示基板，其特征在于，所述像素限定结构背离衬底的一侧设有封装结构。
7.根据权利要求6所述的OLED显示基板，其特征在于，所述封装结构包括有机封装层；所述有机封装层的厚度小于或等于6μm。
8.根据权利要求6所述的OLED显示基板，其特征在于，所述封装结构包括多层有机封装层和多层无机封装层，所述多层有机封装层和多层无机封装层相互交替叠置设置。
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