[发明专利]一种掩膜版、OLED显示基板及其制备方法

说明书

本发明提供一种OLED显示基板及其制备方法、OLED显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的OLED的像素界定结构的坡度角太大会影响封装层的有机膜的问题。本发明的OLED显示基板的制备方法简单易行，只需在像素限定结构的侧面形成至少三个坡，即可减小像素限定结构的坡度角，较小的坡度角不会影响后续形成的封装层的有机膜。

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种掩膜版、OLED显示基板及其制备方法。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示面板具有宽视角、高亮度、高对比度、低驱动电压和快速响应的优点，近些年得到了快速发展。

发明人发现现有技术中至少存在如下问题：OLED的封装层一般为多层无机膜、有机膜交替叠置的结构。其中的有机膜是将液态有机墨水在基板上流平后再固化形成，如果基板上的像素界定结构(PDL)的坡度角太大，则不利于液体有机墨水流平，这将导致显示亮度不均、气泡等不良。目前改善此不良的方法为增加有机墨水厚度来覆盖PDL，从而形成平整的有机层，但是此方法增加了产品的厚度，不适用于超薄显示产品，也不适用于曲面显示产品的弯折。

发明内容

本发明针对现有的OLED的PDL坡度角太大会影响封装层的有机膜的问题，提供一种掩膜版、OLED显示基板及其制备方法。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是：

一种掩膜版，包括遮光区、开口区，以及设于所述遮光区、开口区之间的多个半透光区；所述半透光区的透光率不同，且由靠近遮光区一侧的半透光区至靠近开口区一侧的半透光区的透光率依次递增或递减。

本发明还提供一种OLED显示基板的制备方法，包括以下制备步骤：

在衬底上方形成像素限定层；

采用上述的掩膜版进行曝光以将所述像素限定层图案化形成多个像素限定结构。

可选的是，在形成多个像素限定结构之后还包括形成封装结构的步骤。

可选的是，所述形成封装结构包括形成有机封装层。

可选的是，所述形成有机封装层是采用液态有机墨水流平后再固化形成。

本发明还提供一种OLED显示基板，包括衬底，以及设于所述衬底上方的多个像素限定结构，所述多个像素限定结构限定出像素区域，其中，每个像素限定结构靠近衬底的侧为第一面，背离衬底的侧为第二面，第一面与第二面之间通过侧面连接，所述侧面具有至少三个坡。

可选的是，最靠近衬底的坡的坡度角小于或等于20°。

可选的是，所述像素限定结构背离衬底的一侧设有封装结构。

可选的是，所述封装结构包括有机封装层；所述有机封装层的厚度小于或等于6μm。

可选的是，所述封装结构包括多层有机封装层和多层无机封装层，所述多层有机封装层和多层无机封装层相互交替叠置设置。

本发明还提供一种OLED显示装置，包括上述的OLED显示基板。

附图说明

图1为本发明的实施例1的掩膜版的俯视示意图；

图2为本发明的实施例2的OLED显示基板的制备方法的流程示意图；

图3为本发明的实施例3的OLED显示基板的制备方法的流程示意图；

图4为本发明的实施例4的OLED显示基板的结构图；

图5为本发明的实施例4的OLED显示基板的局部结构图；