[发明专利]一种反应釜清洗系统及清洗方法

权利要求书

1.一种反应釜清洗系统，包括溶剂储仓（1），所述溶剂储仓（1）设有入仓口，所述入仓口通过管道与所述反应釜（3）的底部的出料口连通；所述溶剂储仓（1）的下部设置有出仓口，所述出仓口通过管道与所述反应釜（3）的顶部的进料口连通，所述入仓口和所述出料口之间设有第一输送泵（6），所述出仓口与进料口之间设有第二输送泵（5），其特征在于，所述溶剂储仓（1）还设有投料口，所述溶剂储仓（1）的出仓口还通过管道与入仓口连通；所述出仓口与进料口之间还设有第二过滤器（4），所述第二过滤器（4）和所述第二输送泵（5）还位于所述出仓口和所述入仓口之间。

2.根据权利要求1所述的反应釜清洗系统，其特征在于，所述溶剂储仓（1）和所述反应釜（3）都设有N₂入口。

3.根据权利要求1所述的反应釜清洗系统，其特征在于，所述溶剂储仓（1）的容量为溶剂储仓（1）所配套的反应釜容量之和的1.1~1.5倍。

4.根据权利要求1所述的反应釜清洗系统，其特征在于，所述溶剂储仓（1）设有搅拌桨，所述搅拌桨的桨叶的直径是溶剂储仓（1）直径的0.05~0.95倍。

5.根据权利要求3所述的反应釜清洗系统，其特征在于，所述搅拌桨底部设有刮底部分。

6.根据权利要求1~5任一项所述的反应釜清洗系统，其特征在于，所述入仓口和所述出料口之间还设有第一过滤器（2）。

7.一种反应釜的清洗方法，其特征在于，采用根据权利要求1~6任一项所述的反应釜清洗系统，且包括以下步骤：当溶剂储仓（1）中的溶剂清洗完反应釜（3）后回到溶剂储仓（1）中，从投料口中投入能与活性基团-NCO反应的反应物。

8.根据权利要求7所述的反应釜的清洗方法，其特征在于，所述反应物选用胺类、环氧类或小分子多羟基物质。

9.根据权利要求7所述的反应釜的清洗方法，其特征在于，还包括以下步骤：投入反应物后，开启搅拌桨搅拌，搅拌1.5~3h后，关闭入料口的阀门，打开入仓口的阀门，开启第一输送泵，使溶剂在溶剂储仓（1）中循环，将溶剂中的废渣通过第一过滤器分离出来。

10.根据权利要求7所述的反应釜的清洗方法，其特征在于，在溶剂由溶剂储仓（1）泵送至反应釜（3）中清洗反应釜（3），在清洗完成后再泵送回到溶剂储仓（1）这整个过程中，溶剂储仓（1）和反应釜（3）中都通入N₂。