[发明专利]基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质

说明书

本发明提供一种对于抑制结晶的产生或去除结晶有效的基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。基板液处理装置具备：处理槽，其收容处理液和基板；气体喷嘴，其在处理槽内的下部喷出气体；气体供给部，其供给气体；气体供给线，其将气体喷嘴和气体供给部连接；减压部，其通过使气体供给线减压来向气体供给线引入处理槽内的处理液；以及控制部，其构成为在处理槽中没有收容基板的空闲期间的一部分期间执行如下的第一控制：控制气体供给部以停止气体的供给，并且控制减压部以向气体供给线引入处理液。

技术领域

本公开涉及一种基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。

背景技术

在专利文献1中公开了一种处理装置，所述处理装置具备：溢流槽；泵，其使槽内的蚀刻液(处理液)循环；加热器，其将槽内的处理液加热到固定温度；温度控制器，其控制该温度；框，其将晶圆盒固定于在槽内的底部内设置的分散板；以及鼓泡器，其利用氮来对槽内的处理液进行鼓泡。

专利文献1：日本特开平07-58078号公报

发明内容

发明要解决的问题

从设置于槽的下部的气体喷嘴供给上述的用于鼓泡的氮等气体。在此，通过从气体喷嘴供给气体，在槽内产生处理液的上升流。由此，虽然容易将处理液的状态保持均匀，但在特定的场所，由于气体的流动容易产生处理液的滞留。具体地说，容易在气体喷嘴的开口部的边缘产生由于气体流的紊乱引起的处理液的滞留。因此，有时在气体喷嘴的开口部的边缘产生来自基板和各种管路的溶出成分等的结晶，并且具有该结晶成为气体喷出的障碍的风险。

因此，本公开的目的在于提供一种对于抑制结晶的产生或者去除结晶有效的基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。

用于解决问题的方案

本公开所涉及的基板液处理装置具备：处理槽，其收容处理液和基板；气体喷嘴，其在处理槽内的下部喷出气体；气体供给部，其供给气体；气体供给线，其将气体喷嘴和气体供给部连接；减压部，其通过使气体供给线减压来向气体供给线引入处理槽内的处理液；以及控制部，其构成为在处理槽中没有收容基板的空闲期间的一部分期间执行如下的第一控制：控制气体供给部以停止气体的供给，并且控制减压部以向气体供给线引入处理液。

发明的效果

根据本公开，能够提供一种对于抑制结晶的产生或者去除结晶有效的基板液处理装置、基板液处理方法以及存储介质。

附图说明

图1是示意性地表示基板液处理系统的俯视图。

图2是蚀刻处理装置的示意图。

图3是表示控制部的功能性的结构的框图。

图4是基板处理过程的流程图。

图5是处理液的填充过程的流程图。

图6是基板组处理过程的流程图。

图7是液更换处理过程的流程图。

图8是空闲处理过程的流程图。

图9是第一空闲期间的第一空闲控制的流程图。

图10是第二空闲期间的第二空闲控制的流程图。

图11是基板组处理过程的说明图。

图12是液更换处理过程的说明图。

图13是第二空闲控制的说明图。