[发明专利]显示模组清洗装置及其清洗方法

权利要求书

1.一种显示模组清洗装置，其特征在于，包括：管道和喷头；

所述管道分为主路管道和辅路管道；

所述主路管道一侧连接进水口，另一侧连接所述辅路管道；

其中，所述主路管道分为第一主路管道、第二主路管道和第三主路管道，所述第一主路管道、所述第二主路管道和所述第三主路管道均设置于所述辅路管道一侧，且所述第一主路管道、所述第二主路管道和所述第三主路管道分别单独与进水口相连接；

所述辅路管道另一侧设置所述喷头，所述喷头正对于基板面进行设置。

2.根据权利要求1所述的显示模组清洗装置，其特征在于，相邻所述喷头平均且等距地设置于所述辅路管道。

3.根据权利要求1所述的显示模组清洗装置，其特征在于，所述第一主路管道与所述第二主路管道之间的距离等于所述第二主路管道和所述第三主路管道之间的距离。

4.根据权利要求1所述的显示模组清洗装置，其特征在于，所述辅路管道两端结尾处设置有连接装置，所述连接装置处连接密封盖或是下一段清洗装置。

5.根据权利要求1所述的显示模组清洗装置，其特征在于，所述第一主路管道、所述第二主路管道和所述第三主路管道的直径、材质和外形均相同。

6.根据权利要求1所述的显示模组清洗装置，其特征在于，所述第一主路管道、所述第二主路管道和所述第三主路管道的中段位置各呈90度弯折后与所述铺路管道相连接。

7.根据权利要求1所述的显示模组清洗装置，其特征在于，所述辅路管道两端结尾处使用时用密封盖连接。

8.根据权利要求4所述的显示模组清洗装置，其特征在于，所述辅路管道两端结尾处的连接方式为螺纹连接或是嵌套连接。

9.一种显示模组的清洗方法，其特征在于，包括权利要求1-7中任一项所述的显示模组清洗装置，具体清洗步骤如下：

S10，清洗：使用显示模组清洗装置均匀地对基板进行清洗；

S20，涂布：使用涂布机在基板上涂覆一层光阻层；

S30，进行低压干燥和软烤，使光阻中的有机物得到充分挥发，胶膜干燥，形成硬膜；

S40，曝光：将光罩上的电路结构图形转移至光阻表面；

S50，显影：使用显影设备，将受光区域的光阻层进行溶解；

S60，再次使用显示模组清洗装置对基板进行清洗，分别对基板的正、背面的光阻和显影残留的混合液进行清洗。

10.根据权利要求9所述的显示模组清洗装置的清洗方法，其特征在于，所述喷头将高压低流速的水转化成低压高流速的水喷出。