[发明专利]靶材组件形成方法

权利要求书

1.一种靶材组件形成方法，其特征在于，包括：

提供靶材，所述靶材具有靶材焊接面；

提供背板，所述背板具有背板焊接面；

将所述靶材焊接面镀镍，形成镍镀层；

在所述镍镀层与所述背板焊接面之间放置钎料，对所述靶材以及所述背板进行焊接，形成靶材组件。

2.如权利要求1所述的靶材组件形成方法，其特征在于，所述镍镀层包括镍元素及磷元素，其中，镍元素含量为89％～93％，磷元素含量为6％～10％。

3.如权利要求1所述的靶材组件形成方法，其特征在于，所述镍镀层的厚度为8微米～10微米。

4.如权利要求1所述的靶材组件形成方法，其特征在于，形成所述镍镀层的方法为化学镀工艺。

5.如权利要求4所述的靶材组件形成方法，其特征在于，所述化学镀工艺包括：

提供活化剂，用所述活化剂浸泡所述靶材；

提供镀液，将所述靶材浸泡于所述镀液中，在所述靶材焊接面上沉积所述镍镀层。

6.如权利要求5所述的靶材组件形成方法，其特征在于，所述活化剂为氢氟酸的水溶液，其中，氢氟酸与水的体积比例为1:8。

7.如权利要求5所述的靶材组件形成方法，其特征在于，所述镀液包括：硫酸镍、次亚磷酸钠、硼酸及柠檬酸三钠，其中，所述硫酸镍的质量浓度为96g/L～104g/L，所述次亚磷酸钠的质量浓度为170g/L～200g/L，所述硼酸的质量浓度为145g/L～165g/L，所述柠檬酸三钠的质量浓度为145g/L～165g/L。

8.如权利要求5所述的靶材组件形成方法，其特征在于，所述镀液的pH为4.6～4.8。

9.如权利要求5所述的靶材组件形成方法，其特征在于，所述镀液的温度为86℃～90℃。

10.如权利要求5所述的靶材组件形成方法，其特征在于，所述镀液的装载量为0.5dm²/L～1.5dm²/L。

11.如权利要求5所述的靶材组件形成方法，其特征在于，沉积所述镍镀层的过程中，对所述镀液进行搅拌，搅拌时间为2分钟～3分钟。

12.如权利要求5所述的靶材组件形成方法，其特征在于，用所述活化剂浸泡所述靶材前，采用喷砂工艺对所述靶材焊接面进行粗化处理。

13.如权利要求1所述的靶材组件形成方法，其特征在于，所述靶材的材料为钨钛合金。

14.如权利要求13所述的靶材组件形成方法，其特征在于，所述钨钛合金中钛的质量分数为25％～35％，钨的质量分数为65％～75％。