[发明专利]Mo-Nb合金薄膜蚀刻液组合物及利用其的显示装置用基板的制造方法有效
| 申请号： | 201811062832.0 | 申请日： | 2018-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN110016667B | 公开（公告）日： | 2021-11-23 |
| 发明（设计）人： | 金童基;朴英哲;张晌勋 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/26 | 分类号： | C23F1/26;G02F1/1343;G02F1/1362;H01L27/32 |
| 代理公司： | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人： | 杨黎峰;钟锦舜 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | mo nb 合金 薄膜 蚀刻 组合 利用 显示装置 用基板 制造 方法 | ||
1.一种用于蚀刻由Mo-Nb合金形成的单层膜和多层膜的蚀刻液组合物，相对于全部组合物的总重量，所述蚀刻液组合物包含：
40重量％至60重量％的磷酸；
5重量％至10重量％的硝酸；
7重量％至30重量％的乙酸；
0.1重量％至2重量％的磷酸盐；以及
水；
其中，在所述Mo-Nb合金中，相对于Mo-Nb合金的总重量，Nb的含量为5重量％至20重量％，其中在Nb的含量相对于Mo-Nb合金的总重量为5％至10％时，水的含量相对于蚀刻液组合物的总重量为15重量％至25重量％，在Nb含量相对于Mo-Nb合金的总重量为10％以上时，水的含量相对于蚀刻液组合物的总重量为20重量％至30重量％。
2.根据权利要求1所述的用于蚀刻由Mo-Nb合金形成的单层膜和多层膜的蚀刻液组合物，其中，所述磷酸盐为选自由KH2PO4、K2HPO4、K3PO4、NaH2PO4、Na2HPO4和Na3PO4组成的组中的一者。
3.一种显示装置用基板的制造方法，其特征在于，包括：
步骤a)在基板上形成包含栅电极的栅极线；
步骤b)层压覆盖所述栅极线的栅极绝缘膜；
步骤c)在所述栅极绝缘膜上部形成半导体层；
步骤d)在所述半导体层上形成具有源电极的数据线和漏电极；以及
步骤e)形成与所述漏电极连接的像素电极，
其中，所述步骤a)和步骤e)中的至少一个步骤包括在所述基板上层压金属层的步骤、以及使用根据权利要求1所述的蚀刻液组合物进行蚀刻的步骤。
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