[发明专利]一种浸润式曝光扫描载台装置及晶圆曝光方法

权利要求书

1.一种浸润式曝光扫描载台装置，其特征在于，包括：

扫描载台，设置于一浸润式曝光机装置的浸润罩的下方并供所述浸润罩的相对扫描移动；

晶圆工作台，设置于所述扫描载台上，用于放置表面形成有光刻胶层的晶圆；

环形缓冲圈，设置于所述扫描载台上，所述环形缓冲圈位于所述晶圆工作台的外周，所述环形缓冲圈中间的空腔用于放置所述晶圆工作台以及所述晶圆，且所述环形缓冲圈具有供所述浸润罩下方随行的浸润液爬行的缓升斜面，使所述环形缓冲圈的高度从外边缘向内边缘逐渐增大。

2.根据权利要求1所述的浸润式曝光扫描载台装置，其特征在于，所述环形缓冲圈的内边缘的高度与所述光刻胶层的上表面高度齐平。

3.根据权利要求1所述的浸润式曝光扫描载台装置，其特征在于，所述环形缓冲圈的截面呈现为两个对称的三角形，所述缓升斜面与所述环形缓冲圈的底面在其外边缘的夹角范围介于10°至30°。

4.根据权利要求3所述的浸润式曝光扫描载台装置，其特征在于，所述夹角范围介于20°±2°。

5.根据权利要求1所述的浸润式曝光扫描载台装置，其特征在于，所述环形缓冲圈的上表面具有邻靠所述内边缘的升高平面，用于连接所述缓升斜面。

6.根据权利要求1所述的浸润式曝光扫描载台装置，其特征在于，所述缓升斜面的截面呈现为两个对称的弧形。

7.根据权利要求1至6中任意一项所述的浸润式曝光扫描载台装置，其特征在于， 所述晶圆的环形侧面与所述晶圆工作台的外边缘对齐；或者，所述晶圆工作台的外边缘超出所述晶圆的环形侧面，超出的尺寸的范围为5毫米至10毫米 。

8.根据权利要求7所述的浸润式曝光扫描载台装置，其特征在于，所述环形缓冲圈的内边缘与所述晶圆的环形侧面具有一缝隙，所述缝隙的尺寸的范围为5毫米至10毫米 。

9.根据权利要求7所述的浸润式曝光扫描载台装置，其特征在于，所述环形缓冲圈在内边缘的高度范围介于2至3毫米，所述环形缓冲圈的底面由外边缘至内边缘的长度范围介于10至40毫米，所述环形缓冲圈的外边缘的直径范围介于170至200毫米。

10.根据权利要求7所述的浸润式曝光扫描载台装置，其特征在于，所述晶圆工作台还包括用于引导所述晶圆下降及上升的升降销。

11.根据权利要求7所述的浸润式曝光扫描载台装置，其特征在于，所述环形缓冲圈的材质为陶瓷。

12.一种晶圆曝光方法，包括：

提供权利要求1所述的浸润式曝光扫描载台装置；

装载晶圆至所述晶圆工作台上；

对所述晶圆上的光刻胶层进行逐区扫描曝光，并在每一次曝光后所述扫描载台相对于所述浸润罩的扫描移动，所述浸润罩和所述光刻胶层之间保持有浸润液，当所述浸润罩的曝光区块移动到所述晶圆的周边区域，所述浸润液爬行经过所述环形缓冲圈的所述缓升斜面。

13.根据权利要求12所述的晶圆曝光方法，其特征在于，所述浸润罩的曝光区块移动到所述晶圆的周边区域包括：

刚开始曝光，所述浸润罩带动浸润液并经过所述环形缓冲圈；以及曝光进行中，所述浸润罩的曝光区块恰好需要曝光且对准所述晶圆的周边区域。

14.根据权利要求12所述的晶圆曝光方法，其特征在于，所述装载晶圆至所述晶圆工作台上包括：

升起升降销，将所述晶圆放置在所述升降销的顶部，降下所述升降销以使得所述晶圆下落至所述晶圆工作台。