[发明专利]远程等离子源的调整装置及远程等离子源清洗系统

权利要求书

1.一种远程等离子源的调整装置，所述远程等离子源依次通过进气管和喷嘴将清洗气体通入反应腔室中，所述进气管用于在所述反应腔室抽真空之前支撑远程等离子源，其特征在于，所述调整装置设置在所述远程等离子源与所述反应腔室之间；所述调整装置包括：

固定支架，设置在所述反应腔室的顶部；

至少三个调整组件，每个调整组件分别与所述远程等离子源和所述固定支架连接，并且每个调整组件用于在所述远程等离子源下降至密封位置时，支撑所述远程等离子源，以及调节所述远程等离子源与该调整组件连接位置处的高度。

2.根据权利要求1所述的远程等离子源的调整装置，其特征在于，每个调整组件包括调整杆和连接件，其中，

所述连接件与所述远程等离子源连接；

所述调整杆竖直设置，且与所述连接件螺纹连接，并且所述调整杆与所述固定支架连接，在所述调整杆上设置有限位结构，所述限位结构用于限制所述调整杆相对于所述固定支架沿竖直方向移动，并允许所述调整杆绕自身轴线转动。

3.根据权利要求2所述的远程等离子源的调整装置，其特征在于，所述固定支架包括第一通孔，所述调整杆穿过所述第一通孔；所述限位结构包括设置在所述调整杆的外周壁上的第一限位件，所述第一限位件位于所述第一通孔的上方，且所述第一限位件能止挡在所述第一通孔的上端面。

4.根据权利要求3所述的远程等离子源的调整装置，其特征在于，所述限位结构还包括设置在所述调整杆的外周壁上的第二限位件，所述第二限位件位于所述第一通孔的下方，且所述第二限位件能止挡在所述第一通孔的下端面。

5.根据权利要求3所述的远程等离子源的调整装置，其特征在于，所述固定支架包括支架本体，在所述支架本体的侧壁上设置有凸台，在所述凸台中设置有所述第一通孔，且在所述凸台的侧壁上设置有与所述第一通孔连通的开口槽，用以使所述调整杆能够从所述开口槽安装至所述第一通孔中。

6.根据权利要求2所述的远程等离子源的调整装置，其特征在于，所述连接件包括连接板和连接块，所述连接板与所述远程等离子源的底部连接；所述连接板与所述调整杆对应的位置设置所述连接块，所述连接块设置有螺纹孔，所述调整杆上设置有与所述螺纹孔相配合的外螺纹。

7.根据权利要求2所述的远程等离子源的调整装置，其特征在于，所述调整杆与所述连接件螺纹配合的长度大于或者等于30mm。

8.根据权利要求6所述的远程等离子源的调整装置，其特征在于，所述固定支架的顶部与所述连接板的底部之间具有预设间隙。

9.根据权利要求1所述的远程等离子源的调整装置，其特征在于，每个调整组件包括调整杆和连接件，其中，

所述连接件与所述远程等离子源连接；

所述调整杆为竖直设置的伸缩杆，所述伸缩杆的上端与所述连接件连接，所述伸缩杆的下端与所述固定支架连接；所述伸缩杆由驱动装置带动伸缩。

10.一种远程等离子源的清洗系统，用于将清洗气体通入反应腔室中，其特征在于，包括远程等离子源和依次连接的多段进气管，依次连接的多段进气管分别与所述远程等离子源和所述反应腔室连接，相邻的所述进气管通过法兰连接，且相邻的所述进气管之间设置有密封圈，还包括如权利要求1-9任意一项所述的远程等离子源的调整装置。