[发明专利]熔体灌注系统

权利要求书

1.一种熔体灌注系统，其特征在于，包括：储料罐、供料罐、灌注机构和定位治具，其中，储料罐、供料罐和灌注机构依次连接，定位治具上固定有待加料电池，灌注机构与待加料电池上加料口对位设置；

所述灌注机构包括：压灌器、测量器、真空室和熔体喷嘴，其中，测量器顶部设有压灌器、底部连接有真空室，真空室底部固定有熔体喷嘴，熔体喷嘴设置于电池上加料口上方、与电池上加料口同轴设置；

所述真空室顶部设有上阀门、底部设有下阀门，所述真空室连接有真空泵和惰性气体气罐；

所述定位治具设有真空密封罩，所述真空密封罩与真空泵相连。

2.根据权利要求1所述熔体灌注系统，其特征是，所述测量器采用双层结构，包括内层定量测量室和套设在内层上的外层容液室，内层定量测量室的高度低于外层容液室，外层容液室在顶部设有一对电极；所述压灌器的压灌方向为内层定量测量室高度方向。

3.根据权利要求1或2所述熔体灌注系统，其特征是，所述压灌器采用活塞推杆结构，尺寸与内层定量测量室匹配。

4.根据权利要求1所述熔体灌注系统，其特征是，所述供料罐连接有真空泵和惰性气体气罐。

5.根据权利要求1所述熔体灌注系统，其特征是，所述熔体灌注系统自储料罐至熔体喷嘴以及输送管路均采用20～50mm厚铝板包覆，并设有加热电隅和温度传感器，在熔体灌注路径上对各处的熔体进行温度控制，以满足熔体灌注温度的要求。