[发明专利]数据处理方法及装置、电子设备及存储介质有效
申请号: | 201811090041.9 | 申请日: | 2018-09-18 |
公开(公告)号: | CN110909581B | 公开(公告)日: | 2023-04-14 |
发明(设计)人: | 谢符宝;邹壮;刘文韬;钱晨 | 申请(专利权)人: | 北京市商汤科技开发有限公司 |
主分类号: | G06V40/10 | 分类号: | G06V40/10;G06V10/82;G06T7/73 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 蒋雅洁;张颖玲 |
地址: | 100084 北京市海淀区中*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 数据处理 方法 装置 电子设备 存储 介质 | ||
1.一种数据处理方法,其特征在于,包括:
根据目标的3D图像,获得目标支架的3D特征,其中,所述3D图像包括:2D图像和深度图像;
根据所述3D特征,确定所述目标支架的3D姿态;
将所述3D姿态投影到2D成像平面内,获得第一2D坐标;
基于所述第一2D坐标及基于所述2D图像确定的第二2D坐标之间的差异,进行所述3D姿态的优化;
从所述深度图像中获得与所述第一2D坐标对应的第一深度值;
根据所述3D特征,确定是否存在两个关键点满足遮挡规则;
若存在两个关键点满足所述遮挡规则,根据满足所述遮挡规则的关键点的2D坐标,生成所述第二深度值;
根据所述第一深度值及所述3D特征对应的第二深度值的差值,对所述3D姿态进行优化。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,
所述根据所述3D特征,确定所述目标支架的3D姿态,包括以下至少之一:
根据所述3D特征,确定所述目标支架内部不同支架体之间的自由度参量;
根据所述3D特征与标准支架的尺寸,确定目标支架与所述标准支架的比例参量;
根据所述3D特征,获取所述目标支架的基准点在3D空间内的坐标参量;
根据所述3D特征,获取所述基准点在所述3D空间内的角参量。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,
所述根据所述3D特征,确定是否存在两个关键点满足遮挡规则,包括:
若第一差值阈值若两个所述关键点的2D坐标之差小于第一差值阈值,确定两个所述关键点满足所述遮挡规则。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,
所述根据满足所述遮挡规则的关键点的2D坐标,生成所述第二深度值,包括:
利用基于所述目标的尺寸参量及所述2D坐标,生成所述第二深度值。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,
所述方法还包括:
根据两个所述关键点的深度值,确定满足所述遮挡规则的两个关键点之间的遮挡关系;
所述根据满足所述遮挡规则的关键点的2D坐标,生成所述第二深度值,包括:
若所述遮挡关系表明了第一关键点遮挡了第二关键点,则根据所述3D特征确定所述第一关键点的第二深度值;根据所述第一关键点的所述第二深度值及所述第一关键点和所述第二关键点在目标内的几何关系,确定所述第二关键点的第二深度值。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,
所述基于所述第一2D坐标及基于所述2D图像确定的第二2D坐标之间的差异,进行所述3D姿态的优化,包括:
以所述第一2D坐标及所述第二2D坐标之间的差异最小化为目标函数,利用梯度下降方式对所述3D姿态进行优化。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,
所述以所述第一2D坐标及所述第二2D坐标之间的差异小于目标值或最小化为目标函数,利用梯度下降方式对所述3D姿态进行优化,包括:
确定所述3D姿态的姿态参量的偏导;
以所述第一2D坐标及所述第二2D坐标之间的差异小于目标值或最小化为目标函数,基于所述3D姿态的偏导调整所述偏导对应的所述姿态参量。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,
所述以所述第一2D坐标及所述第二2D坐标之间的差异小于目标值或最小化为目标函数,利用梯度下降方式对所述3D姿态进行优化,包括:
若优化后的所述姿态参量位于预设范围之外,则调整所述目标函数中与所述姿态参量对应的惩罚项,继续对所述姿态参量进行优化。
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