[发明专利]一种生产光纤级四氯化硅的方法在审
申请号: | 201811094068.5 | 申请日: | 2018-09-19 |
公开(公告)号: | CN110921673A | 公开(公告)日: | 2020-03-27 |
发明(设计)人: | 迟志奎 | 申请(专利权)人: | 南京合创工程设计有限公司 |
主分类号: | C01B33/107 | 分类号: | C01B33/107;B01D15/08 |
代理公司: | 江苏舜点律师事务所 32319 | 代理人: | 苗武松 |
地址: | 210037 江苏省南京市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 生产 光纤 氯化 方法 | ||
本发明提供一种生产光纤级四氯化硅的方法,涉及化工技术领域。所述生产光纤级四氯化硅的方法步骤为:光化除杂、精馏除杂、活性氧化铝的制备、活性硅胶制备、吸附柱制备、吸附除杂等步骤。本发明克服了现有技术的不足,降低了四氯化硅的提纯难度,优化提纯步骤,并且本发明方法操作简便,成本低廉并且可连续大规模生产,符合工厂规模生产。
技术领域
本发明涉及化工技术领域,具体涉及一种生产光纤级四氯化硅的方法。
背景技术
光纤通信是二十世纪七十年代发展起来的一种新型的激光通信系统,是当今世界上最先进、最优前途的通信技术,光纤通信具有传输大、通信质量好、使用寿命长、保密性高等优点,随着社会的发展,光纤通信已经成为当前通信技术的主要传输媒介,光纤的市场需求量不断增加,正逐步取代电缆通信。因此光纤材料对于国家通信技术的发展具有非常重要的意义。
四氯化硅是制作光纤光缆预制棒所需要的主要原料,占到光纤成分含量的85%-95%,高纯四氯化硅产品的纯度直接影响光纤的损耗特性。光纤级四氯化硅一般由工业级四氯化硅提纯制得,目前的工业级四氯化硅中可能存在的各种组分多达几十种,这些组分主要是以氯化物和络合物的的形式存在,根据组成形式大体分为金属氯化物、非金属氯化物、含氢化合物和络合物四类,造成光纤吸收损耗的杂质主要有铁、钴、镍、铜、锰、铬、钒、铂等无机杂质、脂肪族、芳香族等有机杂质和氢氧根、三氯氢硅等含氢杂质。
光纤级四氯化硅对杂质含量的要求非常高,在某种程度上比半导体材料更严格,目前国内80%-90%的光纤用四氯化硅依靠进口,与此同时在我国的硅行业中有大量的四氯化硅副产物需要处理,因此对光纤级四氯化硅提纯技术的研究具有十分重要的应用价值。
发明内容
针对现有技术不足,本发明提供一种生产光纤级四氯化硅的方法,降低了四氯化硅的提纯难度,优化提纯步骤,并且本发明方法操作简便,成本低廉并且可连续大规模生产,符合工厂规模生产。
为实现以上目的,本发明的技术方案通过以下技术方案予以实现::
一种生产光纤级四氯化硅的方法,所述生产光纤级四氯化硅的方法:
(1)光化除杂:以工业生产的四氯化硅为原料,以惰性气体为保护气氛,置于光反应器中,调节光反应器内的光照强度和时间,通入过量氯气,去除四氯化硅中的三氯氢硅,得到光化的中间产品备用;
(2)精馏除杂:将上述光化的中间产品通入反应精馏釜内,控制温度在60-65℃,回流时间为24h,再将产品进行二级精馏,且回流时间为18-20h,得精馏产物备用;
(3)活性氧化铝的制备:选取市售氧化铝为原料,添加去离子水和盐酸混合搅拌,浸泡24h后,采用热去离子水冲洗至中性,再加入至吸附柱内,抽水后于活化炉中进行烘干活化;
(4)活性硅胶制备:取超纯的四氯化硅和去离子水在低温下混合搅拌均匀后,静置6-8h,再用去离子水冲洗至中性,于真空干燥机内放置烘干活化;
(5)吸附柱制备:采用活性氧化铝制备吸附柱为第一吸附柱,活性硅胶制备吸附柱为第二吸附柱;
(6)吸附除杂:将上述步骤(2)中的精馏产物滴加进第一吸附柱,再由吸附柱滴入蒸馏器中,当蒸馏器中液体占总器具体积的3/5时开始蒸馏,将蒸汽经过冷凝后直接滴加入第二吸附柱内,经第二吸附柱后滴加入料槽,得本发明光纤级四氯化硅。
优选的,所述光化除杂过程使用的光源为钨灯、荧光灯、高压汞灯、无极灯或白炽灯中的任意一种,且冲入的氯气纯度≥99%。
优选的,所述精馏除杂中回流比控制为15∶1-30∶1,且低沸料去除5%-10%,高沸料去除10%-15%。
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