[发明专利]一种气浴装置的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机有效
申请号: | 201811107683.5 | 申请日: | 2018-09-21 |
公开(公告)号: | CN110941146B | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 龚辉;张洪博;孙启峰;张瑞平 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 装置 栅格 设计 方法 光刻 | ||
1.一种气浴装置(20)的栅格板设计方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1:确定所述栅格板(10)的初始的设计参数,所述栅格板(10)包括多个沿其长度方向间隔设置的栅格(13);
S2:根据所述设计参数,建立气浴装置(20)的流体仿真模型,所述气浴装置(20)包括气浴入口(201)、气浴出口(202)以及气流腔,所述栅格板(10)设置在所述气流腔中;
S3:计算获得所述气浴出口(202)的流体数据;
S4:判断所述流体数据是否满足预设条件,如果是,执行S5;如果否,执行步骤S6;
S5:根据所述流体数据调整每个所述栅格(13)或部分所述栅格(13)的通风面积,更新所述设计参数并返回至S2;
S6:获取每个所述栅格(13)的最优通风面积,从而得到所述栅格板的最终设计参数;
在步骤S3之前,还包括:将所述气浴出口(202)划分为若干个依次连接的出口区域,所述出口区域的个数及位置与所述栅格(13)的个数与位置一一对应;
所述流体数据包括每个所述出口区域的区域平均流速数据;
步骤S5包括如下步骤:
S51:计算最大的区域平均流速超出预设平均流速的百分比A;
S52:根据所述百分比A确定所述最大的所述区域平均流速对应的所述栅格(13)的通风面积的缩小比例B;
S53:计算其余的每个待调整的所述栅格(13)对应的所述区域平均流速超出所述预设平均流速的百分比C;
S54:根据所述缩小比例B和所述每个所述区域平均流速的所述百分比C,确定每个对应的所述栅格(13)的通风面积的缩小比例D;
所述缩小比例B的计算为:
当所述百分比A满足:(n1-1)×10%A≤n1×10%时,所述缩小比例B=1/(n1+1),其中,n1为正整数;
所述缩小比例D的计算为:
当所述百分比C满足:(n2-1)×10%C≤n2×10%时,所述缩小比例D=(n1-n2+1)/(n1+1),其中,n2为正整数。
2.根据权利要求1所述的设计方法,其特征在于,初始的设计参数包括所述栅格板(10)的最大总通风面积、所述栅格板(10)中栅格(13)的个数以及每个所述栅格(13)的初始通风面积。
3.一种栅格板(10),其特征在于,采用如权利要求1或2所述的设计方法形成。
4.一种气浴装置(20),其特征在于,所述气浴装置(20)具有气流腔,所述气流腔内设置有如权利要求3所述的栅格板(10),所述栅格板(10)与所述气流腔的气浴出口(202)正对设置。
5.一种光刻机,其特征在于,包含如权利要求4所述的气浴装置(20)。
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