[发明专利]一种气浴装置的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机

说明书

本发明属于光刻技术领域，具体公开了一种气浴装置的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机。本发明提供的栅格板设计方法包括：S1：确定栅格板的初始的设计参数，所述栅格板包括多个栅格；S2：根据设计参数，建立气浴装置的流体仿真模型；S3：计算获得流体出口的流体数据；S4：判断流体数据是否满足预设条件，如果是，执行S5，如果否，执行S6；S5：根据流体数据调整每个栅格或部分栅格的通风面积，更新设计参数并返回至S2；S6：获取每个栅格的最优通风面积。栅格板采用上述的栅格板设计方法形成，气浴装置包括上述的栅格板，光刻机包括上述的气浴装置。本发明提供的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机，提高了流体出口的流动均匀性和稳定性。

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，尤其涉及一种气浴装置的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机。

背景技术

在薄膜晶体管(Thin Film Transistor)光刻机内，需要为干涉仪的光路布置气浴装置，以保证干涉仪光路的温度与压力的均匀性和稳定性。在TFT光刻机内，为降低光路气浴装置内的送风压阻、保证送风面能够覆盖干涉仪发出的光路以及避免气浴装置与干涉仪支架、出光口、长条镜等的干涉，通常需要将光路气浴装置的静压腔设计成L形。由于L形的静压腔的气浴入口与出气浴出口不在同一流线方向上，十分影响出风均匀性。

常规的气浴装置一般采用常压送风，为了保证气浴出口的压力稳定性和均匀性，通常会在气浴装置的静压腔内设置压阻较大的过滤装置对经过过滤装置的气流进行匀化处理，从而保证气浴出口的出气均匀性。但过滤器不仅会增大压阻，且由于过滤器的尺寸较大，对气浴静压腔的形状和尺寸等限制较大，当静压腔内安装空间有限时，难以将过滤器安装在静压腔内。

发明内容

本发明的一个目的在于提供一种气浴装置的栅格板的设计方法，提高栅格板对气流的匀化作用，满足大面积的均匀送风要求。

本发明的第二个目的在于提供一种栅格板，提高栅格板对气流的匀化作用，满足大面积的均匀送风要求。

本发明的第三个目的在于提供一种气浴装置，提高气浴装置的出风均匀性，满足气浴装置的大面积均匀出风，且有利于减小气浴装置的厚度。

本发明的第四个目的在于提供一种光刻机，用于提高光刻机中干涉仪光路的温度与压力的稳定性和均匀性，保证光刻质量。

为实现上述目的，本发明采用下述技术方案：

一种栅格板设计方法，包括如下步骤：

S1：确定所述栅格板的初始的设计参数，所述栅格板包括多个栅格；

S2：根据所述设计参数，建立气浴装置的流体仿真模型，所述气浴装置包括气浴入口、气浴出口以及气流腔，所述栅格板设置在所述气流腔中；

S3：计算获得所述气浴出口的流体数据；

S4：判断所述流体数据是否满足预设条件，如果是，执行S5，如果否，执行S6；

S5：根据所述流体数据调整每个所述栅格或部分所述栅格的通风面积，更新所述设计参数并返回至S2；

S6：获取每个所述栅格的最优通风面积，从而得到所述栅格的最终设计参数。

进一步地，初始的设计参数包括所述栅格板的最大总通风面积、所述栅格板中栅格的个数以及每个所述栅格的初始通风面积。

进一步地，在步骤S3之前，还包括：将所述气浴出口划分为若干个依次连接的出口区域，所述出口区域的个数及位置与所述栅格的个数与位置一一对应。

进一步地，所述流体数据包括每个所述出口区域的区域平均流速数据。