[发明专利]一种基板图案阵列的完整性检测方法有效
申请号: | 201811114028.2 | 申请日: | 2018-09-25 |
公开(公告)号: | CN109378277B | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 刘哲 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 图案 阵列 完整性 检测 方法 | ||
1.一种基板图案阵列的完整性检测方法,其特征在于,包括以下步骤:
灰度图获取步骤,用以获取基板图案阵列的灰度图;
数值化处理步骤,用以对所述灰度图进行数值化处理,得到灰度值信号;
傅里叶转换步骤,用以将灰度值信号转换为频率域的信号的分布;
对比分析步骤,用以对频率域的信号的分布进行分析,得到所述基板图案阵列的完整性信息;
所述基板图案阵列的完整性信息,包括图案完整和一致,和/或图案缺失,和/或图案偏移,和/或图案形变;
当基板图案阵列中图案完整和一致时,则特征频率对应的位置处无杂讯峰;当基板图案阵列中图案缺失时,则特征频率对应的位置处出现杂讯峰,且在低频位置出现杂讯峰,当图案连续缺失数目增多,则特征频率对应的位置处出现的杂讯峰向左移动;
当基板图案阵列中图案形变膨胀时,则特征频率对应的右移位置处出现杂讯峰;
当基板图案阵列中图案偏移时,则在高频域上出现杂讯峰。
2.根据权利要求1所述的基板图案阵列的完整性检测方法,其特征在于,所述数值化处理步骤中,包括
像素点灰度值计算步骤,用以计算所述灰度图中每一像素点的灰度值;
“灰度值-位置坐标”曲线图建立步骤,以像素点的获取时的次序或方向为横坐标,该横坐标为位置坐标方向,以与所述位置坐标对应的像素点的灰度值分布为纵坐标,建立“灰度值-位置坐标”的曲线图。
3.根据权利要求2所述的基板图案阵列的完整性检测方法,其特征在于,所述傅里叶转换步骤中,包括将“灰度值-位置坐标”曲线图中的某一位置的波形信号分解成有限个已知正弦或者余弦信号的和值,并对有限个已知正弦或者余弦信号的和值形成的信号作带通滤波,转换成频率域的“强度-频率”信号的图形。
4.根据权利要求3所述的基板图案阵列的完整性检测方法,其特征在于,在所述频率域的“强度-频率”信号图形中,特征频率表示有限个已知主频率信号的合集,其中,主频率位置与基板图案阵列的分布的密度强相关。
5.根据权利要求4所述的基板图案阵列的完整性检测方法,其特征在于,在对比分析步骤中,包括根据特征频率的相对位置或绝对位置,判断基板图案阵列的周期分布及尺寸规格是否满足设计要求。
6.根据权利要求5所述的基板图案阵列的完整性检测方法,其特征在于,所述基板图案阵列包括像素定义层的像素图案、间隙控制层的PS柱图案以及金属层的金属走线图案。
7.根据权利要求6所述的基板图案阵列的完整性检测方法,其特征在于,所述基板图案阵列中,图案的尺寸范围为图案的密范围为10ppi-106ppi。
8.根据权利要求7所述的基板图案阵列的完整性检测方法,其特征在于,所述灰度图获取步骤中,采用CCD相机对基板图案阵列进行扫描,扫描速度为1m/s。
9.根据权利要求8所述的基板图案阵列的完整性检测方法,其特征在于,所述特征频率有效范围为
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造