[发明专利]一种基板图案阵列的完整性检测方法有效

专利信息
申请号: 201811114028.2 申请日: 2018-09-25
公开(公告)号: CN109378277B 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 刘哲 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 图案 阵列 完整性 检测 方法
【说明书】:

发明公开了一种基板图案阵列的完整性检测方法,包括以下步骤:灰度图获取步骤,用以获取基板图案阵列的灰度图;数值化处理步骤,用以对所述灰度图进行采样数值化处理,得到灰度值信号;傅里叶转换步骤,用以将灰度值信号转换为频率域的信号的分布;对比分析步骤,用以对频率域的信号的分布进行分析,得到所述基板图案阵列的完整性信息。本发明能够快速精准地检测基板图案阵列中图案的一致性和完整性,并对缺陷的类型进行判别,为待测样品的缺陷修复提供检测依据。

技术领域

本发明涉及柔性显示装置检测等领域,具体为一种基板图案阵列的完整性检测方法。

背景技术

在柔性显示装置,尤其是有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体(AMOLED)的显示基板中,通常由曝光和/或蚀刻得到的微小的周期性图案,它们的各自完整性和分布的一致性是保证每个显示像素或者每个辅助显示单元正常工作的前提。对这些周期性图案(例如点、线、平面/立体图形等的矩阵)检测,通常由自动光学检测机(AutomaticOptic Inspection,AOI)完成。自动光学检测机通过对比相邻数个区块(例如像素)之间的一致性来判断当前区块(例如像素)是否存在图形的异常。此类测试方法,在提高检测精细度的要求下,不得不设计相当复杂的光学系统和电气系统,因此,其设备成本和人工成本较高,同时还要花费较多的检测时间,增加了制程的时间成本。

发明内容

本发明提供一种基板图案阵列的完整性检测方法,以解决现有技术中,利用自动光学检测机检测时,设备成本和人工成本较高,检测时间长等问题。

为解决上述技术问题本发明提供一种基板图案阵列的完整性检测方法,包括以下步骤:灰度图获取步骤,用以获取基板图案阵列的灰度图;数值化处理步骤,用以对所述灰度图进行数值化处理,得到灰度值信号;傅里叶转换步骤,用以将灰度值信号转换为频率域的信号的分布;对比分析步骤,用以对频率域的信号的分布进行分析,得到所述基板图案阵列的完整性信息。

在本发明一实施例中,所述数值化处理步骤中,包括像素点灰度值计算步骤,用以计算所述灰度图中每一像素点的灰度值;“灰度值-位置坐标”曲线图建立步骤,以像素点的获取时的次序或方向为横坐标,该横坐标为位置坐标方向,以与所述位置坐标对应的像素点的灰度值分布为纵坐标,建立“灰度值-位置坐标”的曲线图。

在本发明一实施例中,所述傅里叶转换步骤中,包括将“灰度值-位置坐标”曲线图中的某一位置的波形信号分解成有限个已知正弦或者余弦信号的和值,并对有限个已知正弦或者余弦信号的和值形成的信号作带通滤波,转换成频率域的“强度-频率”信号的图形。

在本发明一实施例中,在所述频率域的“强度-频率”信号图形中,特征频率表示有限个已知主频率信号的合集,其中,主频率位置与基板图案阵列的分布的密度强相关。

在本发明一实施例中,在对比分析步骤中,包括根据特征频率的相对位置或绝对位置,判断基板图案阵列的周期分布及尺寸规格是否满足设计要求。

在本发明一实施例中,所述基板图案阵列包括像素定义层的像素图案、间隙控制层的PS柱图案以及金属层的金属走线图案。

在本发明一实施例中,所述基板图案阵列的完整性信息,包括图案完整和一致,和/或图案缺失,和/或图案偏移,和/或图案形变;当基板图案阵列中图案完整和一致时,则特征频率对应的位置处无杂讯峰;当基板图案阵列中图案缺失时,则特征频率对应的位置处出现杂讯峰,且在低频位置出现杂讯峰,当图案连续缺失数目增多,则特征频率对应的位置处出现的杂讯峰向左移动;当基板图案阵列中图案形变膨胀时,则特征频率对应的右移位置处出现杂讯峰;当基板图案阵列中图案偏移时,则在高频域上出现杂讯峰。

在本发明一实施例中,所述基板图案阵列中,图案的尺寸范围为图案的密范围为10ppi-106ppi。

在本发明一实施例中,所述灰度图获取步骤中,采用CCD相机对基板图案阵列进行扫描,扫描速度为1m/s。

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