[发明专利]蒸镀设备以及蒸镀方法

说明书

本发明提供一种蒸镀设备以及蒸镀方法，属于显示器制备技术领域，其可至少部分解决现有蒸镀源与基板之间的距离比较小时蒸镀设备沉积的薄膜不均匀的问题。本发明的一种蒸镀设备，用于在基板上沉积薄膜，蒸镀设备包括：基板架，用于安装基板；蒸镀台，用于安装蒸镀源，蒸镀源用于将待蒸镀物质加热而形成蒸镀蒸汽；蒸镀腔室，基板架和蒸镀台以相对设置的方式安装于蒸镀腔室内，蒸镀腔室包括调节结构，调节结构用于在密封状态下调节蒸镀腔室内的空间的体积。

技术领域

本发明属于显示器制备技术领域，具体涉及一种蒸镀设备以及蒸镀方法。

背景技术

现有的有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)中许多结构的制备一般采用蒸镀的方式，即首先采用电流加热、电子束轰击加热和激光加热等加热方法，使被蒸镀材料蒸发成原子或分子的蒸镀蒸汽；其次，在掩膜版的作用下，蒸镀蒸汽扩散至基板的待沉积面的预定位置，最后，蒸镀蒸汽在预定位置内碰撞基片表面，并且凝结，从而形成不同的薄膜(例如R、G、B发光层的薄膜)。

现有技术的蒸镀设备为了避免由于蒸镀蒸汽沉积到蒸汽腔室的侧壁，或者其他不需要沉积的表面上而造成的蒸镀材料的浪费，一般会将蒸镀源与基板之间的距离调整小。然而，蒸镀源与基板之间的距离过小可能会导致基板上沉积的薄膜不均匀，从而会使产品良率降低。

发明内容

本发明至少部分解决现有蒸镀源与基板之间的距离比较小时蒸镀设备沉积的薄膜不均匀的问题，提供一种蒸镀源与基板之间的距离比较小且沉积的薄膜不均匀的蒸镀设备。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种蒸镀设备，用于在基板上沉积薄膜，所述蒸镀设备包括：

基板架，用于安装所述基板；

蒸镀台，用于安装蒸镀源，所述蒸镀源用于将待蒸镀物质加热而形成蒸镀蒸汽；

蒸镀腔室，所述基板架和所述蒸镀台以相对设置的方式安装于所述蒸镀腔室内，所述蒸镀腔室包括调节结构，所述调节结构用于在密封状态下调节所述蒸镀腔室内的空间的体积。

进一步优选的是，所述蒸镀腔室包括多个壁面，所述多个壁面限定出所述蒸镀腔室内的空间，其中至少一个壁面为移动壁面，所述移动壁面能够沿与其接触的壁面密封的移动，以调节所述蒸镀腔室内的空间的体积，所述调节结构包括所述移动壁面。

进一步优选的是，所述多个壁面包括相对的底壁和顶壁，以及多个连接在所述底壁和顶壁间的侧壁，所述蒸镀台设于所述底壁内侧，所述基板架设于所述顶壁内侧；所述移动壁面为所述底壁。

进一步优选的是，该蒸镀设备还包括：加热单元，用于对所述侧壁进行加热。

进一步优选的是，该蒸镀设备还包括：掩膜架；掩膜版，设于所述掩膜架上，且覆盖所述基板的待沉积表面，所述掩膜版包括第一部分，所述第一部分具有大小可调节的开口，所述蒸镀蒸汽经过所述开口而沉积在所述基板待沉积表面的特定位置上。

进一步优选的是，所述第一部分由压电陶瓷材料制成。

进一步优选的是，所述掩膜版还包括第二部分，设于所述第一部分远离安装于所述基板架的所述基板的一侧，所述第二部分具有与所述开口对应的导流通道，所述导流通道用于供所述蒸镀蒸汽进入所述开口，所述导流通道的进气端的横截面积大于出气端的横截面积。

进一步优选的是，所述蒸镀台具有承载面，所述蒸镀台能够带动所述蒸镀源以垂直于所述承载面的线为轴转动。

进一步优选的是，所述蒸镀台上设有多个用于安装所述蒸镀源的安装结构，所述蒸镀源具有发射面，所述安装结构能带动所述蒸镀源以垂直于所述发射面的线为轴转动。