[发明专利]枫香拟茎点霉菌及其应用有效

专利信息
申请号: 201811122333.6 申请日: 2018-09-26
公开(公告)号: CN109136110B 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 毕士媛;贾爱群;周金伟;袁胜涛 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: C12N1/14 分类号: C12N1/14;C12P19/04;C12N1/38;C12N1/20;C08B37/00;C12R1/645;C12R1/385
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 杨晓莉
地址: 210000 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 枫香 拟茎点 霉菌 及其 应用
【说明书】:

发明公开了一种枫香拟茎点霉菌NUSTb1,其保藏编号为:CCTCC NO:M 2018476,其ITS基因序列如SEQ ID NO:1所示。该菌株可用于制备水溶性胞外多糖,制备所得水溶性胞外多糖能够促进铜绿假单胞菌生物被膜的合成,有益于提高铜绿假单胞菌的耐药能力,适用于工业化生产,具有良好的开发应用前景。

技术领域

本发明属于微生物技术,特别是涉及一种枫香拟茎点霉菌及其应用。

背景技术

细菌被膜是由细菌黏附在细菌接触物体表面上,合成分泌多糖、纤维蛋白和脂质蛋白基质等物体,同时将菌体自身包埋其中的一种膜状物[1,2]。生物被膜是细菌的一种保护性生长方式,用来适应外界的不利影响,能使细菌对抗生素的耐药性增强10-1000倍[3]。该膜是细菌的三维聚合体,抗菌药物难以透过,导致细菌高度耐药性,使其能长期存活,不易清除,引起慢性和难治疗性感染疾病的反复发作,给临床抗感染治疗带来极大地困难。铜绿假单胞菌是医院获得性感染的重要条件致病菌和耐药菌之一,在感染的机体中常以生物被膜的形式存在。现有的研究都是发现对生物被膜破坏的物质,对生物被膜具有促进作用的物质很少。

参考文献:

[1]Lasa I.Towards the identification of the common features ofbacterial biofilm development.Int Microbiol.2006;9(1):21-28

[2]Donlan RM,Costerton JW.Biofilms:survival mechanisms of clinicallyrelevant micro-oranganisms.Clin Microbiol Rev.2002;15(2)67-93.

[3]Mah TFC,O,Toole GA.Mechanisms of biofilm esistance toantimicrobial agents[J].Trends in microbiology[J],2001,9(1):34-39

发明内容

发明目的:本发明提供了一种枫香拟茎点霉属新菌株,该菌种能够用于制备促进生物被膜合成的水溶性胞外多糖。

技术方案:本发明所述的一种枫香拟茎点霉菌,其分类命名为枫香拟茎点霉菌(Phomopsis Liquidambari)NUSTb1,保藏在中国典型培养物保藏中心(简称CCTCC),保藏单位地址:中国武汉,其保藏编号为:CCTCC NO:M 2018476,保藏日期为2018年7月13日。

所述枫香拟茎点霉菌NUSTb1的ITS基因序列如SEQ ID NO:1所示。

上述枫香拟茎点霉菌NUSTb1在制备水溶性胞外多糖中的应用也本发明保护范围内,其中,所述水溶性胞外多糖结构式为:

[→4)-α-Glc-(1→6)-α-Glc-(1→4)-α-Glc-(1→4))-α-Glc-(1→]n。

利用本申请枫香拟茎点霉菌制备水溶性胞外多糖的方法,包括以下步骤:

(1)活化:将菌株NUSTb1在固体PDA培养基上活化;

(2)发酵:刮取步骤(1)活化后长在固体PDA培养基上的菌体,接种至pH6.3-6.4液体发酵培养基中,28-30℃,180-200rpm,培养10-15天;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京理工大学,未经南京理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811122333.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top