[发明专利]研磨垫以及研磨方法

权利要求书

1.一种研磨垫，其特征在于，适用于研磨物件，所述研磨垫包括：

研磨层，所述研磨层具有中央区域以及围绕所述中央区域的周边区域；以及

至少一沟槽，配置在所述研磨层中，所述至少一沟槽各具有两端点皆位于所述周边区域，其中所述两端点包括开放式端点及封闭式端点，且其中所述至少一沟槽延伸通过所述中央区域。

2.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述研磨层具有研磨面以及与所述研磨面连接的侧表面，所述开放式端点与所述研磨层的所述侧表面连接，所述封闭式端点不与所述研磨层的所述侧表面连接且具有端面。

3.根据权利要求2所述的研磨垫，其特征在于，所述端面为垂直面或倾斜面。

4.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述物件在所述研磨层上的研磨轨迹位于所述中央区域。

5.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述至少一沟槽的深度自所述封闭式端点至所述开放式端点逐渐变深。

6.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，对应于所述研磨垫的相对运动方向，所述开放式端点为前端点，所述封闭式端点为后端点。

7.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，对应于所述研磨垫的相对运动方向，所述封闭式端点为前端点，所述开放式端点为后端点。

8.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述至少一沟槽包括多个沟槽，所述多个沟槽区分为第一部分及第二部分，其中对应于所述研磨垫的相对运动方向：

所述第一部分的所述开放式端点为前端点，所述封闭式端点为后端点；以及

所述第二部分的所述封闭式端点为前端点，所述开放式端点为后端点。

9.根据权利要求8所述的研磨垫，其特征在于，所述第一部分的深度自所述封闭式端点至所述开放式端点逐渐变深且具有第一深度倾斜度，所述第二部分的深度自所述封闭式端点至所述开放式端点逐渐变深且具有第二深度倾斜度，其中所述第二深度倾斜度大于所述第一深度倾斜度。

10.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述至少一沟槽为直线状沟槽或弧线状沟槽。

11.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述至少一沟槽为圆弧线状沟槽，所述研磨垫具有旋转轴心，且所述圆弧线状沟槽的圆心与所述旋转轴心不相重叠。

12.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述至少一沟槽的分布形状为平行线状、不平行线状、XY格子线状、交叉线状、同心弧线状、不同心弧线状、不规则弧线状或其组合。

13.一种研磨垫，其特征在于，适用于研磨物件，所述研磨垫包括：

研磨层，所述研磨层具有中央区域以及围绕所述中央区域的周边区域；

至少一沟槽，配置在所述研磨层中，所述至少一沟槽各具有两端点皆位于所述周边区域，且所述至少一沟槽延伸通过所述中央区域，其中所述两端点包括开放式端点及封闭式端点；以及

虚拟延伸直线，通过所述研磨垫的中心且与所述至少一沟槽的切线方向垂直，其中所述至少一沟槽非对称于所述虚拟延伸直线。

14.根据权利要求13所述的研磨垫，其特征在于，所述至少一沟槽位于所述虚拟延伸直线两侧部分的配置为彼此非镜像。

15.根据权利要求13所述的研磨垫，其特征在于，所述至少一沟槽位于所述虚拟延伸直线两侧部分的深度为彼此非镜像。