[发明专利]一种EUV光刻胶及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种EUV光刻胶，其特征在于：包括聚合物、光产酸剂、淬灭剂、含氟表面活性剂和溶剂，所述聚合物的主链中含有A、B和C三种结构单元：

其中，所述A₁、B¹、B²、C¹为无或相互独立的一个或多个取代基；所述聚合物、光产酸剂、淬灭剂、含氟表面活性剂和溶剂的质量比为50-200：10-100：1-5：0.1-1：1000-5000；所述A选自以下结构式：

所述B选自以下结构式：

所述C选自以下结构式：

所述光产酸剂的化学结构式选自以下组：和/或其中，D¹、D²、D³、E¹、E²、X¹、Y¹分别相互为独立的取代基团，D¹、D²、D³分别为芳香烃或烷基基团；E¹、E²分别为芳香烃或烯烃或炔烃基团；X¹、Y¹分别为阴离子基团；若所述光产酸剂中包含则选自以下化合物：

若所述光产酸剂中包含则所述选自以下化合物：

所述淬灭剂为胺类化合物，其结构通式如下：式中，F¹、F²和F³分别为相互独立的取代基团，所述淬灭剂选自以下化合物：

所述溶剂包括以下组分中的一种或多种：PGMEA、PGME、乳酸乙酯、NMP。

2.一种如权利要求1所述的EUV光刻胶的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

S1、选择聚合物单体并将所述聚合物单体通过聚合反应制得聚合物，所述聚合物单体中含有A、B和C三种结构单元；

S2、将上述操作制得的聚合物、光产酸剂、淬灭剂、含氟表面活性剂和溶剂按照质量比为50-200：10-100：1-5：0.1-1：1000-5000混合，过滤制得所述EUV光刻胶。

3.一种如权利要求1所述的EUV光刻胶的在光刻中的应用。