[发明专利]聚噻吩防静电硅系离型膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 201811135906.9 申请日: 2018-09-28
公开(公告)号: CN109438739A 公开(公告)日: 2019-03-08
发明(设计)人: 唐月方 申请(专利权)人: 苏州市星辰科技有限公司
主分类号: C08J7/04 分类号: C08J7/04;C09J7/40;C09D165/00;C09D183/04;C09D5/24;C09D7/65;C08L23/06;C08L67/02
代理公司: 南京北辰联和知识产权代理有限公司 32350 代理人: 王真
地址: 215103 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 防静电 聚噻吩 基膜层 离型层 离型膜 硅系 防静电液 单键 制备 纳米级气相白炭黑 外表面涂布 表面填充 电子轨道 电子离域 共轭效应 线性轨道 诱导效应 透明膜 离域 双键 贴合 休克 轨道 流动
【权利要求书】:

1.一种聚噻吩防静电硅系离型膜,包括基膜层和防静电离型层,所述基膜层为25~150微米的透明膜,在所述基膜层的表面填充有纳米级气相白炭黑,所述基膜层的外表面涂布贴合有防静电离型层;其特征在于,所述防静电离型层的涂布液成份中含有聚噻吩。

2.根据权利要求1所述的聚噻吩防静电硅系离型膜,其特征在于,所述防静电离型层的涂布液成份按重量份数配比为:30~50份甲苯、30~50份丁酮、1~10份有机硅油B057、1~10份有机硅油B037、0.5~1.5份硅烷偶联剂、1~10份辅料、0.05~5份聚噻吩、1~5固化剂。

3.根据权利要求2所述的聚噻吩防静电硅系离型膜,其特征在于,所述防静电离型层的涂布液成份按重量份数配比为:40份甲苯、40份丁酮、5份有机硅油B057、5份有机硅油B037、1份硅烷偶联剂、5份辅料、2份聚噻吩、2固化剂。

4.根据权利要求2所述的聚噻吩防静电硅系离型膜,其特征在于,所述有机硅油B057的分子量为40000~60000,粘度为18000~30000;其分子结构为:

5.根据权利要求2所述的聚噻吩防静电硅系离型膜,其特征在于,所述有机硅油B037的分子量为40000~60000,粘度为18000~30000;其分子结构为:

6.一种聚噻吩防静电硅系离型膜的制备方法,其特征在于,具体包括以下步骤:

(1)配制溶剂:将甲苯和丁酮按比例混合均匀,制备得混合溶剂;

(2)配制离型液:在步骤(1)中制备的混合溶剂中加入反应性有机硅油B057和B037,搅拌15~30分钟,投入硅烷偶联剂,持续搅拌并投入辅料、聚噻吩、固化剂,搅拌均匀,制得防静电离型涂布液;

(3)在基膜层上涂布步骤(2)所配制的防静电离型涂布液,涂布完成后经100~150℃烘干,收卷成型,制得聚噻吩防静电硅系离型膜。

7.根据权利要求2所述的聚噻吩防静电硅系离型膜的制备方法,其特征在于,所述基膜层的材质为PET树脂或/和聚乙烯(PE)。

8.根据权利要求2所述的聚噻吩防静电硅系离型膜的制备方法,其特征在于,所述PET基膜层为透光率在95%以上,雾度为1.6~1.8%的PET膜体。

9.根据权利要求2所述的聚噻吩防静电硅系离型膜的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)在基膜层表面进行电晕,使其表面重度电晕化。

10.根据权利要求2所述的聚噻吩防静电硅系离型膜的制备方法,其特征在于,所述硅烷偶联剂为KH550;所述辅料包括纳米级气相白炭黑、纳米级硅粉、平流剂C1-C4脂类化合物、附着剂XC-01中的一种或多种混合;固化剂为2%的氯铂酸催化剂。

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