[发明专利]具有高沉积环及沉积环夹具的处理配件

说明书

本文提供处理配件及包含此处理配件的处理腔室的实施方式。在一些实施方式中，处理配件包括沉积环，所述沉积环被配置而设置在基板支撑件上，所述基板支撑件被设计为用于支撑具有给定宽度的基板，所述沉积环包含：环形带，所述环形带被配置为搁置在所述基板支撑件的下突出部分上；内唇，所述内唇从所述环形带的内缘向上延伸，其中所述内唇的内表面与所述环形带的内表面一起形成具有小于所述给定宽度的宽度的中央开口，并且其中所述环形带的上表面与所述内唇的上表面之间的深度是介于约24mm与约38mm之间；通道，所述通道设置在所述环形带的径向外侧；及外唇，所述外唇向上延伸且设置在所述通道的径向外侧。

本申请是申请日为2016年7月1日、申请号为201680037325.4、发明名称为“具有高沉积环及沉积环夹具的处理配件”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本公开内容的实施方式大体涉及基板处理设备。

背景技术

处理配件屏蔽件可用于例如物理气相沉积(PVD)腔室中，以将处理空间与非处理空间分开。在被配置为在基板上沉积铝的PVD腔室中，处理配件屏蔽件可由例如不锈钢(SST)制造。由于在处理期间沉积于处理配件屏蔽件上的铝层能从基部SST屏蔽件材料蚀刻掉，因此SST处理配件屏蔽件可以循环利用多次。然而，相比于传统的铝沉积处理，本发明人一直致力于使用显著增加的处理功率和沉积时间来在基板上沉积相对厚的铝膜。

对于高沉积处理，在处理配件上的沉积物累积显著积聚到所述沉积物能积聚到基板背面的程度。此时，沉积物可能粘附或粘在基板背面，这会导致基板的处置问题及引起基板破裂。

因此，本发明人提供了如本文所揭露的改良的处理配件的实施方式。

发明内容

本文提供处理配件及包含所述处理配件的处理腔室的实施方式。在一些实施方式中，处理配件包括沉积环，所述沉积环被配置为设置在基板支撑件上，所述基板支撑件被设计为用于支撑具有给定宽度的基板，所述沉积环包含：环形带，所述环形带被配置而放置在所述基板支撑件的下突出部分上；内唇，所述内唇从所述环形带的内缘向上延伸，其中所述内唇的内表面与所述环形带的内表面一起形成具有小于所述给定宽度的宽度的中央开口，并且其中所述环形带的上表面与所述内唇的上表面之间的深度是介于约24mm与约38mm之间；通道，所述通道设置在所述环形带的径向外侧；及外唇，所述外唇向上延伸且设置在所述通道的径向外侧。

在一些实施方式中，处理配件包括沉积环和夹持组件，所述沉积环被配置而设置在基板支撑件上，所述基板支撑件被设计为用于支撑具有给定宽度的基板，所述沉积环包含：环形带，所述环形带被配置为搁置在所述基板支撑件的下突出部分上；内唇，所述内唇从所述环形带的内缘向上延伸，其中所述内唇的内表面与所述环形带的内表面一起形成具有小于所述给定宽度的宽度的中央开口，并且其中所述环形带的上表面与所述内唇的上表面之间的深度是介于约24mm与约38mm之间；通道，所述通道设置在所述环形带的径向外侧；及外唇，所述外唇向上延伸且设置在所述通道的径向外侧；所述夹持组件包含底板和两个或更多个夹具，所述底板与所述基板支撑件耦接，所述两个或更多个夹具从所述底板向上延伸而与所述沉积环接合以防止所述沉积环的垂直运动。