[发明专利]一种彩膜基板及其制造方法

说明书

本发明提出一种彩膜基板及其制造方法，彩膜基板采用彩膜光罩共用的方法形成，通过共用色层光罩可以分别曝光制得黑色矩阵和色阻层，其中，黑色矩阵为正性光阻，色阻层为负性光阻。本发明提出共用色层光罩的彩膜制作思路，有效的简化了彩膜制程，提高了生产效率，节省了生产成本。

技术领域

本发明属于显示面板制作技术领域，具体涉及一种彩膜基板及其制造方法，彩膜基板采用彩膜光罩共用的方法形成。

技术背景

薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)包括相对设置TFT基板、彩膜(CF)基板以及位于TFT基板和彩膜(CF)基板之间的液晶。其中，彩膜基板(CF)主要包括玻璃基板、黑色矩阵(BM)、色阻层(RGB)、保护层(OC)、导电膜(ITO)以及柱状Spacer等。

现有技术中，彩膜基板在进行制作黑色矩阵、RGB色阻层时要求黑色矩阵与RGB色阻层采用不同的光罩(mask)，具体的彩膜制造方法如图1至图3所示，其中，黑色矩阵和RGB色阻层均为负性光阻。

图1为现有技术中黑色矩阵的制作的示意图，首先在玻璃基板上涂布一层黑色矩阵光阻，采用黑色矩阵光罩对黑色矩阵光阻并经过曝光和显影得到如图2所示的黑色矩阵。

图3为现有技术中RGB色阻层的制作的示意图，在黑色矩阵的基础上涂布一层R(Red)光阻，采用RGB光罩对R光阻经过曝光、显影、烘烤后就得到一层R色层，同理，继续涂布G(Green)光阻/B(Blue)光阻，采用相同的步骤就能得到G/B色层。

对于以上制造方法，需要的光罩数量多，此外，光罩的价格昂贵且维护成本高，为了节省生产成本，增加工作效率，需要设计一种新的彩膜制造方法来控制生产成本。

发明内容

本发明提供一种彩膜基板及其制造方法，彩膜基板采用彩膜光罩共用的方法形成，用以解决彩膜制作生产过程中光罩使用数量多，成本高昂的问题，简化彩膜制程，有效减少生产时间及生产成本。

一种彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：

S1：提供进行曝光的光罩

S2：在基板上涂覆一层黑色矩阵的正性光阻，采用所述光罩经过n次曝光之后再显影、烘烤制作出黑色矩阵，其中n为每个像素单元的子像素的数量；

S3：在步骤S2制作的基板上采用所述光罩形成色阻层，其中,n＝3或n＝4。

进一步地，当色阻层为RGB色层时，所述步骤S2具体为：

S21：在基板上涂覆一层黑色矩阵的正性光阻；

S22：用所述光罩对黑色矩阵的正性光阻进行第一次曝光，曝光后在第一层黑色矩阵上做上对位标记；

S23：通过参照对位标记将所述光罩沿水平方向朝一侧移动一个子像素的距离，进行第二次曝光；

S24：通过参照对位标记将所述光罩沿水平方向朝相同的一侧移动两个子像素的距离后进行第三次曝光；

S25：三次曝光完成后通过显影处理，移除被曝光位置处的正性光阻，烘烤后就得到黑色矩阵。

进一步地，当色阻层为RGBW色层时，所述步骤S2具体为：

S21：在基板上涂覆一层黑色矩阵的正性光阻；

S22：用所述光罩对黑色矩阵的正性光阻进行第一次曝光，曝光后在第一层黑色矩阵上做上对位标记；

S23：通过参照对位标记将所述光罩沿水平方向朝一侧移动一个子像素的距离，进行第二次曝光；

S24：通过参照对位标记将所述光罩沿水平方向朝相同的一侧移动两个子像素的距离后进行第三次曝光；