[发明专利]一种掩膜版的量测补值方法、掩膜版及掩膜版的制备方法

权利要求书

1.一种掩膜版的量测补值方法，其特征在于，包括：

提供一掩膜版，所述掩膜版包括显示区以及预留区，所述预留区设置有长度尺，所述掩膜版的显示区上设置有多个第一图形，根据预设距离值确定所述掩膜版上所述多个第一图形的位置；

对所述多个第一图形进行图案化处理，在玻璃基板上得到与所述多个第一图形对应的多个第二图形，并获取所述多个第二图形中相邻第二图形间的实际距离值；

根据所述预设距离值与所述第二图形间的实际距离值得到补偿值；

根据所述补偿值对所述第二图形进行补值处理。

2.如权利要求1所述的掩膜版的量测补值方法，其特征在于，所述长度尺用于确定所述多个第一图形位置以及测量所述相邻第二图形间的实际距离值。

3.如权利要求2所述的掩膜版的量测补值方法，其特征在于，所述根据预设距离值确定所述掩膜版上的多个第一图形的位置，包括：

根据所述长度尺的刻度线与所述预设距离值确定所述掩膜版上所述多个第一图形中相邻第一图形间的距离值为预设距离值。

4.如权利要求1所述的掩膜版的量测补值方法，其特征在于，所述对所述多个第一图形进行图案化处理，在玻璃基板上得到与所述多个第一图形对应的多个第二图形，并获取所述多个第二图形中相邻第二图形间的实际距离值包括：

对所述多个第一图形进行图案化处理，使得所述玻璃基板上的所述多个第二图形在水平方向上的长度减小或增大，以得到与所述多个第一图形对应的多个第二图形；

根据所述长度尺的刻度线确定所述多个第二图形中相邻第二图形间的实际距离值。

5.如权利要求1所述的掩膜版的量测补值方法，其特征在于，所述根据所述预设距离值与所述实际距离值得到补偿值，包括：

根据所述预设距离值与所述实际距离值的差值，得到所述补偿值。

6.如权利要求1所述的掩膜版的量测补值方法，其特征在于，所述预设距离值为所述多个第一图形中相邻第一图形末端间的距离，和/或所述多个第一图形中相邻第一图形首端间的距离。

7.如权利要求1所述的掩膜版的量测补值方法，其特征在于，所述实际距离值为所述多个第二图形中相邻第二图形末端间的距离，和/或所述多个第二图形中相邻第二图形首端间的距离。

8.如权利要求1所述的掩膜版的量测补值方法，其特征在于，所述对所述多个第一图形进行图案化处理，包括：

对所述多个第一图形进行曝光和/或蚀刻。

9.一种掩膜版，其特征在于，包括：显示区以及预留区，所述显示区上设置有多个第一图形，在所述预留区上设置有长度尺，所述长度尺为如权利要求1-8任一项所述的长度尺。

10.一种掩膜版的制备方法，其特征在于，包括：

将所述掩膜版划分为显示区以及预留区；其中，

所述显示区上设置有多个第一图形，所述预留区上设置有长度尺，所述长度尺为如权利要求1-8任一项所述的长度尺。