[发明专利]一种气浴装置及光刻机有效

专利信息
申请号: 201811158115.8 申请日: 2018-09-30
公开(公告)号: CN110966916B 公开(公告)日: 2021-10-15
发明(设计)人: 李先明 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G01B9/02 分类号: G01B9/02
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 胡彬
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 装置 光刻
【权利要求书】:

1.一种气浴装置,包括进风口、处理腔(100)和出风口(200),其特征在于,所述出风口(200)包括第一通道组(210)和第二通道组(220),其中,所述第一通道组(210)的气浴方向与水平面的夹角V大于所述第二通道组(220)的气浴方向与水平面的夹角W;

所述第二通道组(220)包括第二气浴通道(221),所述第二气浴通道(221)包括相对设置的第一圆弧板(2214)和第二圆弧板(2215),所述第一圆弧板(2214)的曲率半径大于所述第二圆弧板(2215)的曲率半径,所述第二气浴通道(221)末端的气浴方向大致水平。

2.根据权利要求1所述的气浴装置,其特征在于,所述第一通道组(210)包括多个第一气浴通道(211),每个所述第一气浴通道(211)包括相互间隔且平行设置的两个第一翅片,且每个所述第一气浴通道(211)与水平面的夹角均为所述夹角V。

3.根据权利要求1所述的气浴装置,其特征在于,所述第二气浴通道(221)沿气流方向依次设置有渐缩部(2211)、喉管(2212)和渐扩部(2213),所述渐缩部(2211)与所述处理腔(100)连接,所述渐扩部(2213)末端的气浴方向大致水平。

4.根据权利要求3所述的气浴装置,其特征在于,所述喉管(2212)的横截面面积为P,所述渐缩部(2211)的最大截面积为Q,满足P=0.25~0.8Q。

5.根据权利要求3所述的气浴装置,其特征在于,所述第二气浴通道(221)的横截面为矩形。

6.根据权利要求5所述的气浴装置,其特征在于,所述第一圆弧板(2214)的末端与水平面相切。

7.根据权利要求5所述的气浴装置,其特征在于,所述第二气浴通道(221)的高度为H,所述第二气浴通道(221)沿水平方向的长度为S,满足H=1/5~1/1.5S。

8.根据权利要求1所述的气浴装置,其特征在于,所述出风口(200)还包括过渡通道组(230),所述过渡通道组(230)位于所述第一通道组(210)和所述第二通道组(220)之间,所述过渡通道组(230)的气浴方向与水平面的夹角N大于所述夹角W,且小于所述夹角V。

9.根据权利要求8所述的气浴装置,其特征在于,所述过渡通道组(230)设置有多个第三气浴通道(231),多个所述第三气浴通道(231)与水平面的夹角朝靠近所述第二通道组(220)方向逐渐减小,且所述第三气浴通道(231)与水平面的最大夹角Nmax小于所述夹角V,所述第三气浴通道(231)与水平面的最小夹角Nmin大于所述夹角W。

10.根据权利要求9所述的气浴装置,其特征在于,每个所述第三气浴通道(231)包括相互间隔设置的两个第二翅片,相邻两个所述第二翅片之间的距离朝着远离所述处理腔(100)的方向逐渐增大,且相邻两个所述第二翅片之间的距离朝着靠近所述第二通道组(220)的方向逐渐增大。

11.一种光刻机,其特征在于,包括权利要求1-10任意一项所述的气浴装置。

12.根据权利要求11所述的光刻机,其特征在于,所述光刻机包括多个干涉仪和多组所述气浴装置,每组所述气浴装置包括两个所述气浴装置,且两个所述气浴装置的第二通道组(220)相对设置,其中所述干涉仪的参考光路和测量光路均从相对设置的两个所述气浴装置之间穿过。

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