[发明专利]一种气浴装置及光刻机

说明书

本发明公开了一种气浴装置及光刻机，属于光刻机技术领域。该气浴装置包括进风口、处理腔和出风口，所述出风口包括第一通道组和第二通道组，所述第一通道组和所述第二通道组朝靠近干涉仪方向依次设置，其中，所述第一通道组的气浴方向与水平面的夹角V大于所述第二通道组的气浴方向与水平面的夹角W。光刻机包括上述气浴装置。本发明通过设置气浴方向不同的第一通道组和第二通道组，实现对干涉仪中的测量光路和参考光路进行吹扫，使得干涉仪的参考光路也处于气浴温控区，保证了干涉仪测量结果的精确性。

技术领域

本发明涉及光刻机技术领域，尤其涉及一种气浴装置及光刻机。

背景技术

光刻机作为半导体行业最精密、最先进、最昂贵的专用设备，其包括干涉仪，干涉仪用于检验光学元件和检测位移，通常干涉仪分为参考光路和测量光路，其对工作环境的要求特别苛刻，主要表现在对局部区域的温度控制方面的要求较高。光刻机通常采用气浴装置实现所需的控温效果，气浴装置用于提供温度、压力(流速或流量)恒定的洁净空气吹扫光路区域，保证整个光路空间区域温度压力均匀，实现其光路稳定，保证干涉仪测量的精确性。

其中，干涉仪两侧会设置有气浴装置，但是干涉仪和气浴装置的空间允许布局，通常气浴装置会导致以下问题出现，测量光路位于气浴装置出口的下方，参考光路基本与气浴装置出口处于同一水平面上。当气浴装置进行温控时，参考光路处于气浴温控的死角处，气浴空气无法覆盖该死角区域，使得参考光路区域温控失败，从而导致干涉仪测量结果存在误差。

为了保证测量光路和参考光路均能接受到温度、速率和压强均相同的气浴温控，通常在干涉仪周围设置多个气浴装置，多个气浴装置中能实现对干涉仪中测量光路和参考光路进行不同方向、不同高度和不同位置的气浴温控，这样的布局会导致气浴装置出口结构布局较为繁琐且占用空间较大，同时会导致各个气浴装置出口之间的气流扰动的可能性增加，从而影响干涉仪对光学元件的测量结果；同时上述结构不利于光刻机的紧凑性和实用性要求，并且也增加了设计的复杂性。

为此，亟需提供一种气浴装置及光刻机以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种气浴装置，以解决现有气浴装置无法对与其基本处于同一平面的参考光路进行气浴吹扫的问题。

本发明的另一目的在于提供一种光刻机，结构紧凑、实用性强。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一种气浴装置，其包括进风口、处理腔和出风口，所述出风口至少包括第一通道组和第二通道组，所述第一通道组和所述第二通道组朝靠近干涉仪方向依次设置，其中，所述第一通道组的气浴方向与水平面的夹角V大于所述第二通道组的气浴方向与水平面的夹角W。

通过设置气浴方向不同的第一通道组和第二通道组，实现对干涉仪中的测量光路和参考光路进行吹扫，使得干涉仪的参考光路处于气浴温控区，保证了干涉仪测量结果的精确性；并且该气浴装置仅仅通过对出风口部分进行改进，并未额外增加气浴装置的情况下，解决了现有气浴装置的无法使干涉仪的参考光路处于气浴温控区的问题，使得气浴装置能满足光刻机的紧凑型和实用性要求。

作为优选，所述第一通道组包括多个第一气浴通道，每个所述第一气浴通道包括相互间隔且平行设置的两个第一翅片,且每个所述第一气浴通道与水平面的夹角均为所述夹角V。

作为优选，所述第二通道组包括第二气浴通道，所述第二气浴通道沿气流方向依次设置有渐缩部、喉管和渐扩部，所述渐缩部与所述处理腔连接，所述渐扩部末端的气浴方向大致水平。

作为优选，所述喉管的横截面面积为P，所述渐缩部的最大截面积为Q，其满足P＝0.25～0.8Q。

作为优选，所述第二气浴通道的横截面为矩形。

作为优选，所述第二气浴通道包括相对设置的第一圆弧板和第二圆弧板，所述第一圆弧板的曲率半径大于所述第二圆弧板的曲率半径。