[发明专利]一种光罩和显示面板的制作方法

权利要求书

1.一种光罩的制作方法，其特征在于，所述光罩制作方法包括：

在实验环境模拟所述光罩对应生产的部件的曝光条件；

在实验环境制作所述部件，记录实验数据；

将所述实验数据跟生产环境记录的生产数据对比，形成参考数据；

根据所述参考数据制作所述部件的光罩；

其中，所述部件包括支撑柱；所述曝光条件包括烘烤温度和烘烤时间、显影时间和曝光剂量和光罩的第一开口宽度；所述实验数据包括与所述部件的第一线宽数据，所述第一线宽数据跟同一曝光条件下的光罩的第一开口宽度对应；所述生产数据包括所述部件的第二线宽数据和对应光罩的第二开口宽度数据；所述参考数据包括生产环境和实验环境下部件及其对应光罩的线宽比。

2.如权利要求1所述的一种光罩的制作方法，其特征在于，所述曝光剂量的取值范围在40-50mj/cm2,所述第一开口宽度取值范围在200-300um之间。

3.如权利要求1所述的一种光罩的制作方法，其特征在于，所述曝光条件有多组，每组的烘烤参数和显影参数相同。

4.如权利要求1所述的一种光罩的制作方法，其特征在于，所述在实验环境模拟支撑柱的曝光条件的步骤包括：滤除实验环境的曝光机中跟生产环境的曝光机差异的第一波长。

5.如权利要求4所述的一种光罩的制作方法，其特征在于，所述第一波长的范围在300nm-350nm之间。

6.如权利要求1所述的一种光罩的制作方法，其特征在于，所述支撑柱包括主支撑柱和子支撑柱，制作所述主支撑柱和所述子支撑柱的曝光条件相同。

7.一种光罩的制作方法，其特征在于，所述光罩制作方法包括：

在实验环境模拟支撑柱的曝光条件；

在实验环境制作所述支撑柱，记录实验数据；

将所述实验数据跟生产环境记录的生产数据对比，形成参考数据；

根据所述参考数据制作所述支撑柱的光罩；

所述曝光条件包括烘烤参数、曝光参数和显影参数；所述实验数据包括支撑柱的第一线宽数据，所述第一线宽数据跟同一曝光条件下的所述光罩的第一开口宽度对应；所述生产数据包括支撑柱的第二线宽数据和对应光罩的第二开口宽度数据；所述参考数据包括生产环境和实验环境下支撑柱及其对应光罩的线宽比；所述曝光条件有多组，每组的烘烤参数和显影参数相同；

所述烘烤参数包括烘烤温度和烘烤时间；所述显影参数包括显影时间；所述曝光参数包括曝光剂量和光罩的第一开口宽度；

所述曝光剂量的取值范围在40-50mj/cm2,所述第一开口宽度取值范围在200-300um之间；

所述在实验环境模拟支撑柱的曝光条件的步骤包括：滤除实验环境的曝光机中的第一波长为333nm；

所述支撑柱包括主支撑柱和子支撑柱，制作所述主支撑柱和所述子支撑柱的曝光条件相同。

8.一种显示面板的制作方法，包括如权利要求2-7任意一项所述光罩的制作方法。