[发明专利]一种光罩和显示面板的制作方法

说明书

本发明公开了一种光罩和显示面板的制作方法。所述光罩的制作方法包括：在实验环境模拟所述光罩对应生产的部件的曝光条件；在实验环境制作所述部件，记录实验数据；将所述实验数据跟生产环境记录的生产数据对比，形成参考数据；根据所述参考数据制作所述部件的光罩。本发明能有效减少制作光罩的成本。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，更具体的说，涉及一种光罩和显示面板的制作方法。

背景技术

液晶显示器具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶面板及背光模组(BacklightModule)。液晶面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子，并在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线折射出来产生画面。

液晶显示器技术在不断进步，在日益发展的市场下，各家厂商为了增大产能对厂内的资源进行了调配，这样一方面可以增大产能，另一方面也可以使厂内生产更加合理化。

目前工厂里面阵列基板制程和彩膜基板制程需要采用不同的曝光机，光罩的制作成本高昂。

发明内容

有鉴于现有技术的上述缺陷，本发明所要解决的技术问题是提供一种降低光罩制作成本的光罩和显示面板的制作方法。

为实现上述目的，本发明提供了一种用于部件的光罩的制作方法。所述光罩制作方法包括：

在实验环境模拟所述光罩对应生产的部件的曝光条件；

在实验环境制作部件，记录实验数据；

将实验数据跟生产环境记录的生产数据对比，形成参考数据；

根据参考数据制作部件的光罩；

可选的，所述部件包括支撑柱；所述曝光条件包括烘烤参数、曝光参数和显影参数；所述实验数据包括与所述部件的第一线宽数据，所述第一线宽数据跟同一曝光条件下的光罩的第一开口宽度对应；所述生产数据包括所述部件的第二线宽数据和对应光罩的第二开口宽度数据；所述参考数据包括生产环境和实验环境下部件及其对应光罩的线宽比。

支撑柱在显示面板中的高度较高，光罩尺寸的细微差异都会在制程中得到放大，支撑柱对应的光罩的要求较高，需要反复测试才能做出合格的光罩，因此，相比其他光罩制作成本更高，降成本效果明显。

可选的，所述烘烤参数包括烘烤温度和烘烤时间；所述显影参数包括显影时间；所述曝光参数包括曝光剂量和光罩的第一开口宽度。

可选的，所述曝光剂量的取值范围在40-50mj/cm2,所述第一开口宽度取值范围在200-300um之间。

从实验数据来看，在这些区间范围内取值，产生的支撑柱断差差异较小，且都接近于实际的支撑柱尺寸。

可选的，所述曝光条件有多组，每组的烘烤参数和显影参数相同。

研究发现，曝光相关的参数对支撑柱的尺寸影响较大，为了重点突出影响支撑柱尺寸的主要因素，可以固定相对稳定的烘烤参数和显影参数，而着重改变影响较大的曝光参数，能有效简化数据分析难度，且对数据的准确性影响不大。

可选的，所述在实验环境模拟支撑柱的曝光条件的步骤包括：滤除实验环境的曝光机中跟生产环境的曝光机差异的第一波长。

实验环境和生产环境的数据要有可比性，就要去两种环境下的曝光机产生的光源，特别是波长要尽量保持一致。但要做到完全一致是非常困难的，而且花费的成本会很高昂。因此，折中的方式可以选择差异较大的波长，通过过滤板滤除有差异的第一波长，可以在成本较低的情况下得到跟生产环境相近的光源。

可选的，所述第一波长的范围在300nm-350nm之间。