[发明专利]反应腔及化学气相沉积装置

权利要求书

1.一种反应腔，其特征在于，所述反应腔包括腔本体和设置于所述腔本体内的支撑座和支架组件，所述支架组件包括第一支架和第二支架，所述第一支架的第一端和所述第二支架的第一端设置于所述支撑座上，所述第一支架的第二端和所述第二支架的第二端为自由端，且所述第一支架的第二端至所述支撑座的距离大于所述第二支架的第二端至所述支撑座的距离，所述第一支架的第二端用于朝向所述支撑座移动。

2.如权利要求1所述的反应腔，其特征在于，所述第一支架为伸缩支架，所述伸缩支架的第二端在驱动组件的作用下朝所述支撑座移动。

3.如权利要求2所述的反应腔，其特征在于，所述驱动组件包括设置于所述支撑座内的伸缩缸，所述第一支架的第一端与所述伸缩缸的自由端连接。

4.如权利要求1所述的反应腔，其特征在于，所述第一支架为玻璃支架，所述玻璃支架在所述反应腔内的反应温度大于所述玻璃支架的软化温度时发生软化坍塌,以使得所述玻璃支架的第二端朝所述支撑座移动。

5.如权利要求4所述的反应腔，其特征在于，所述玻璃支架的材质包括氧化硅、氧化铝、氧化钠和氧化钙，且氧化硅、氧化铝、氧化钠和氧化钙的重量份数比为(40-60)份：(20-30)份：10份：10份。

6.如权利要求4所述的反应腔，其特征在于，所述支撑座上设置有石墨座，所述石墨座上设置有卡槽，所述第一支架卡设于所述卡槽内，所述第一支架的第二端套设有石墨帽。

7.如权利要求6所述的反应腔，其特征在于，所述石墨座包括底座、和与所述底座连接的套座和孔板，所述底座的一端设置有环槽，所述套座的一端设置有与所述环槽适配的环凸，所述孔板设置于所述底座和所述套座之间，所述底座内设置有容纳腔，所述套座内设置有所述卡槽，所述玻璃支架放置在所述孔板上，所述孔板上具有多个通孔。

8.如权利要求1至6中任一项所述的反应腔，其特征在于，所述第一支架和所述第二支架的数量均为多个，且所述第一支架和所述第二支架间隔均布在所述支撑座上。

9.如权利要求1至6中任一项所述的反应腔，其特征在于，所述支撑座包括基座和转台，所述基座与所述腔本体连接，所述转台转动地设置于所述基座上，所述第一支架和所述第二支架设置于所述转台上。

10.一种化学气相沉积装置，其特征在于，所述化学气相沉积装置包括如权利要求所述1至9中任一项所述的反应腔。