[发明专利]一种硅片腐蚀装置

权利要求书

1.一种硅片腐蚀装置，其特征在于：它包括水浴箱（1），在水浴箱（1）内设有一对壁板（5），在一对壁板（5）之间跨接有腐蚀槽（2），在腐蚀槽（2）内设有腐蚀液（3），设置硅片腐蚀架（4），硅片腐蚀架包括浸入腐蚀液（3）的下板（4a）和跨设在腐蚀槽（2）上方的上板（4b）,在下板（4a）上设有一组拉杆（4c），拉杆（4c）的上端与上板（4b）连接，在下板（4a）上设有一组硅片支撑座（4d），硅片支撑座（4d）外侧的下板（4a）上均布有一组销钉（4g），所述销钉（4g）的高度大于硅片支撑座（4d）的高度，以便对放置在硅片支撑座上的硅片进行水平方向上的限位，在其中一个销钉（4g）上还设有档条（4h），所述档条（4h）的水平高度大于硅片支撑座（4d）的高度，且档条（4h）伸向下板（4a）的圆心处，通过档条（4h）对放置在硅片支撑座上的硅片进行纵向上的限位；

在壁板（5）下方的水浴箱（1）的箱壁上设有溢水孔（1a）；

在上板（4b）上均布有一组升降装置，在腐蚀槽（2）和水浴箱（1）箱底之间的箱壁上设有隔板（1b），在隔板（1b）上均有一组通孔（1c），在隔板（1b）下方的箱壁一侧连通有进水管（7）；在所述水浴箱（1）外侧还设有一个体积较大的外箱（6），在外箱（6）的箱壁下部设有排水口（6a），所述进水管（7）进水端伸出外箱（6）后与水源连通。

2.根据权利要求1中所述的一种硅片腐蚀装置，其特征在于：上板（4b）上设有一组缺口（4f）。

3.根据权利要求1中所述的一种硅片腐蚀装置，其特征在于：所述的升降装置为丝杆（4e）或螺钉。