[发明专利]一种硅片腐蚀装置

说明书

本发明提供一种硅片腐蚀装置，其特征在于：它包括水浴箱（1），在水浴箱（1）内设有一对壁板（5），在一对壁板（5）之间跨接有腐蚀槽（2），在腐蚀槽（2）内设有腐蚀液（3），设置硅片腐蚀架（4），硅片腐蚀架包括浸入腐蚀液（3）的下板（4a）和跨设在腐蚀槽（2）上方的上板（4b）,在上、下板之间设有一组拉杆（4c）,在下板（4a）上设有一组硅片支撑座（4d），在上板（4b）上均布有一组升降装置（4e）。本发明结构简单、使用方便、能确保硅片在腐蚀液中始终保持水平状态。

技术领域：

本发明涉及芯片生产领域，具体地说就是一种硅片腐蚀装置。

背景技术：

在进行硅各向同性腐蚀时，硅片的放置位置对硅片上的半球腔的圆度影响很大，倾斜放置的硅片，因腐蚀液对流不平衡会造成硅片上的半球腔的圆度均匀性差，影响半球腔的质量，进而对硅片整体造成不利的影响。虽然现有技术中也有一些水平度可调的腐蚀装置，但大多体积庞大，制造成本较高，不适合硅各向同性腐蚀中的水平度调节。

发明内容：

本发明就是为了克服现有技术中的不足，提供一种硅片腐蚀装置。

本发明提供以下技术方案：

一种硅片腐蚀装置，其特征在于：它包括水浴箱，在水浴箱内设有一对壁板，在一对壁板之间跨接有腐蚀槽，在腐蚀槽内设有腐蚀液，设置硅片腐蚀架，硅片腐蚀架包括浸入腐蚀液的下板和跨设在腐蚀槽上方的上板,在下板上设有一组拉杆，拉杆的上端与上板连接，在下板上设有一组硅片支撑座，在上板上均布有一组升降装置，在水浴箱下部连通有进水管。

在上述技术方案的基础上，还可以有以下进一步的技术方案：

硅片支撑座外侧的下板上均布有一组销钉，在其中一个销钉上还设有档条。

在壁板下方的水浴箱的箱壁上设有溢水孔。

在腐蚀槽和水浴箱箱底之间的箱壁上设有隔板，在隔板上均有一组通孔。

在所述水浴箱外侧还设有一个体积较大的外箱，在外箱的箱壁下部设有排水口，所述进水管进水端伸出外箱后与水源连通。

上板上设有一组缺口。

所述的升降装置为丝杆或螺钉。

发明优点：

本发明结构简单、使用方便、能确保硅片在腐蚀液中始终保持水平状态。

附图说明：

图1是本发明的整体结构示意图；

图2是图1中硅片腐蚀架的结构示意图。

具体实施方式：

如图1和2所示，一种硅片腐蚀装置，它包括水浴箱1，在水浴箱1两侧箱壁的上部分别设有一个壁板5，所述的壁板5为水平分布且相互对称，两个壁板5设置有一定间距，且所述的壁板5两端均伸出水浴箱1的箱壁。

设置一个腐蚀槽2，在腐蚀槽2上端开口部设有与壁板5形成搭接配合的翻边2a.所述的腐蚀槽2的槽体位于壁板5下方的水浴箱1内，在槽体内装有腐蚀液3。

在壁板5下方的水浴箱1箱壁上均设有一个溢水孔1a。所述溢水孔1a的高度要高于腐蚀液3的液面高度。在腐蚀槽2和水浴箱1箱底之间的箱壁上设有一个水平分布的隔板1b，在隔板1b上均有一组通孔1c。在孔板1b下方的箱壁一侧连通有进水管7。从进水管流入向水浴箱的冷却水通过隔板上通孔的分流，能均匀的包裹在腐蚀槽的槽体外侧对槽体进行均匀的降温。

在所述水浴箱1外侧还设有一个体积较大的外箱6，在外箱6的箱壁下部设有排水口6a，所述进水管7进水端从外箱6的箱壁伸出后与水源连通。所述外箱6与水浴箱1的箱底为一体式结构。