[发明专利]一种负离子精雕砖及其制备方法

权利要求书

1.一种负离子精雕砖的制备方法，其特征在于，包括：

(1)制备底釉：将钾长石37-55份，高岭土6-12份，烧高岭土5-7份，碳酸钡8-13份，石英4-8份，煅烧氧化锌1-3份，煅烧滑石3-6份，第一添加剂5-10份，水30-50份加入球磨机，球磨至预设细度后加入0.8-1.8份第二添加剂，混合均匀后得到底釉釉浆；所述第二添加剂中含有ThO₂；

(2)分别制备坯体、面釉釉浆、喷墨墨水和精雕墨水；

(3)在烘干的坯体表面施底釉釉浆以形成底釉层；

(4)在所述底釉层上采用喷墨墨水以及精雕墨水印刷装饰图案；

(5)将步骤(4)得到的坯体放置预设时间以使装饰图案渗透形成浮雕层；

(6)在所述坯体表面施面釉釉浆以形成面釉层；

(7)将步骤(6)得到的坯体烘干；

(8)将步骤(7)得到的坯体烧成，得到负离子精雕砖成品；

其中，所述精雕墨水包括助渗剂，所述助渗剂选用碳酸钠、氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或组合。

2.如权利要求1所述的负离子精雕砖的制备方法，其特征在于，所述第二添加剂的化学成分为：SiO₂ 15-19％、Al₂O₃ 5-8％、Fe₂O₃ 2.5-4.5％、TiO₂ 4-6％、CaO 0.8-1.5％、MgO0.2-0.6％、K₂O 0.01-0.06％、Na₂O 0.4-0.8％、ZnO 0.2-0.5％、CeO₂ 3-5％、ZrO₂ 14-17％、ThO₂ 25-29％、BaO 1.0-2.0％，余量为杂质。

3.如权利要求1或2所述的负离子精雕砖的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述第二添加剂平均粒径≤0.1μm。

4.如权利要求1-3任一项所述的负离子精雕砖的制备方法，其特征在于，所述负离子精雕砖释放负离子数为2000-3000个/cm²。

5.如权利要求1所述的负离子精雕砖的制备方法，其特征在于，所述精雕墨水由以下重量份的原料制成：增粘剂25-50份和助渗剂5-20份；其中，所述增粘剂选用甘油、羧甲基纤维素、淀粉中的一种或组合物。

6.如权利要求1所述的负离子精雕砖的制备方法，其特征在于，所述面釉釉浆由以下重量份的原料制备而成：钠长石35-48份，高岭土6-10份，烧高岭土3-7份，煅烧氧化锌1-3份，滑石3-6份，碳酸锶7-15份，氧化锆10-15份，第一添加剂10-25份；

其中，第一添加剂的化学成分为SiO₂ 45-49％、Al₂O₃ 15-17％、Fe₂O₃0.2-0.7％、TiO₂0.2-0.5％、CaO 12.9-16.8％、MgO 1-3％、K₂O 1.5-3.5％、Na₂O 0.5-0.8％、ZnO 12.7-15.9％，余量为杂质。

7.如权利要求3所述的负离子精雕砖的制备方法，其特征在于，所述面釉釉浆的化学成分为：SiO₂ 45.6-52.7％、Al₂O₃ 12-17％、Fe₂O₃ 0.1-0.2％、TiO₂0.2-0.5％、CaO 5-7.5％、MgO 0.3-0.7％、K₂O 2.7-5.8％、Na₂O 3.6-5.3％、ZnO 3-5％、SrO 7-9％、ZrO₂ 3-5％，余量为杂质；

所述面釉釉浆的细度为325目筛筛余0.4-0.7％，比重为1.88-1.93g/ml，流速为30-38秒/100mL釉浆。