[发明专利]一种负离子精雕砖及其制备方法

说明书

本发明公开了一种负离子精雕砖的制备方法，包括：分别制备底釉、坯体、面釉、喷墨墨水与精雕墨水，在坯体表面依次制备底釉、喷墨印刷、面釉、烘干、烧成后即得到成品。本发明通过喷墨渗花技术，在瓷砖砖面制备了丰富逼真的3D浮雕，其制备工艺简单，不用根据瓷砖的不同设计更换模具，大幅节省了生产成本。相应的，本发明还公开了一种负离子精雕砖，其表面光泽度低，纹理清晰，立体感强；且防污性能、防滑性能较高。

技术领域

本发明属于陶瓷砖制备领域，尤其涉及一种负离子精雕砖及其制备方法。

背景技术

随着人们生活水平的提升，对于家居的功能化需求也日益增长。如何赋予家居用品更多的功能，成为了重点的研究方向。负离子瓷砖作为一种可净化室内空气的产品颇受消费者欢迎。然而，现有的负离子瓷砖的，多是将少量的可产生负离子的物质添加在釉料或喷墨墨水中，以使得瓷砖具有释放负离子的效应。然而，当在面釉中添加负离子材料时，由于面釉不耐磨，导致面釉中的有效物质很快会被磨损掉，从而丧失相应的功能；当在喷墨墨水中添加负离子材料时，容易影响墨水的发色效果。

另一方面，随着制造技术的发展，瓷砖的装饰也越来越丰富。人们也越来越致力于模仿天然石材，然而，普通的仿石材砖，都是在表面印刷一层图案，不具有立体感，急需改进。

一种改善的方法是采用布料技术在瓷砖坯体表面营造仿石材的凹凸感；如中国专利CN104193415A就公开了一种采用二次布料来制造立体装饰效果瓷砖的方法。然而，这种工艺在日常生产之中限制巨大：每更换一个产品就需要设计不同样的模具，生产过程中还需要市场更换模具，不仅生产成本高、生产效率也低。

喷墨渗花技术作为一种新型技术，目前被广泛应用在瓷质砖的生产。其主要原理是，在瓷质砖坯体表面淋底釉或二次布料制备坯体，然后喷渗透墨水，使得图案渗透到底釉层或坯体之中，烧成后再进行抛光，就形成了立体装饰的视觉感。专利CN105330342B即采用底釉加渗透墨水加透明面釉的结构，制备得到了具有立体装饰效果的一次烧超平瓷质砖。然而，就目前而言，这种渗花技术多用于釉面具有很高光泽度的瓷质砖产品，如抛釉砖等；这也就要求在烧成之后进行抛光；以提升瓷质砖表面光泽度，使得立体装饰效果能够呈现，其工序十分麻烦；另一方面，为了提升釉面的光泽度，就需要对釉料的配方进行调节，使得其具有很高的透光性，也就降低了烧成后釉面中晶体的含量，降低了瓷质砖的耐磨性能，其莫氏硬度仅达到5-6；极易磨穿。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于，提供一种负离子精雕砖的制备方法，其方法简单、效率高，制得的瓷砖表面光泽度低，防滑性能优良，且可释放负离子，净化空气。

本发明还要解决的技术问题在于，提供一种负离子精雕砖，其光泽度低，防滑性优良，且表面具有3D装饰效果。

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种负离子精雕砖的制备方法，包括：

(1)制备底釉：将钾长石37-55份，高岭土6-12份，烧高岭土5-7份，碳酸钡8-13份，石英4-8份，煅烧氧化锌1-3份，煅烧滑石3-6份，第一添加剂5-10份，水30-50份加入球磨机，球磨至预设细度后加入0.8-1.8份第二添加剂，混合均匀后得到底釉釉浆；

(2)分别制备坯体、面釉釉浆、喷墨墨水和精雕墨水；

(3)在烘干的坯体表面施底釉釉浆以形成底釉层；

(4)在所述底釉层上采用喷墨墨水以及精雕墨水印刷装饰图案；

(5)将步骤(4)得到的坯体放置预设时间以使装饰图案渗透形成浮雕层；

(6)在所述坯体表面施面釉釉浆以形成面釉层；

(7)将步骤(6)得到的坯体烘干；

(8)将步骤(7)得到的坯体烧成，得到负离子精雕砖成品。