[发明专利]蒸镀源、蒸镀装置在审
| 申请号： | 201811172998.8 | 申请日： | 2018-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN109023260A | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 刘晓云 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蒸镀源 治具 开口 蒸镀装置 中心区域 蒸镀 基板相对设置 真空成膜装置 基板表面 蒸镀材料 逐渐增大 均一性 沉积 成膜 镀膜 基板 排布 | ||
1.一种蒸镀源，包括：蒸镀本体，其与待进行镀膜的基板相对设置，用于向所述基板表面沉积蒸镀材料，其特征在于，所述蒸镀源还包括：设置在所述蒸镀本体与所述基板之间的治具，所述治具包括多个开口，多个所述开口围绕所述治具的中心区域排布，且沿着远离所述中心区域的方向，所述开口的宽度逐渐增大。
2.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，多个所述开口围绕所述中心区域均匀排布。
3.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，还包括：蒸镀容纳室、连接轴；
所述蒸镀容纳室为中空结构，所述治具、蒸镀本体、连接轴均位于所述中空结构内，且所述连接轴的第一端与所述治具连接，其的第二端与所述蒸镀容纳室的内壁固定连接，用于将所述治具固定在所述蒸镀本体与所述基板之间。
4.根据权利要求3所述的蒸镀源，其特征在于，所述连接轴的形状与所述开口的形状一致。
5.根据权利要求3所述的蒸镀源，其特征在于，还包括：转动组件、驱动组件；
所述转动组件的一端与所述连接轴的第一端连接，另一端与所述治具的中心区域连接；
所述驱动组件与所述转动组件连接，用于驱动转动组件转动，以带动所述治具发生转动。
6.根据权利要求5所述的蒸镀源，其特征在于，所述转动组件的转速为50～1000r/s。
7.根据权利要求3所述的蒸镀源，其特征在于，还包括：吸热组件，其设置在所述连接轴靠近所述基板的一侧上，用于吸收蒸镀本体所散发的热量。
8.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述治具的材料为金属材料。
9.根据权利要求8所述的蒸镀源，其特征在于，所述金属材料包括钛合金。
10.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述开口的形状包括扇形。
11.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述蒸镀源为点蒸镀源。
12.一种蒸镀装置，其特征在于，包括权利要求1-11中任一所述的蒸镀源。
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